[发明专利]一种GaN基蓝绿光激光二极管器件及制作方法有效
| 申请号: | 201310108423.0 | 申请日: | 2013-03-29 |
| 公开(公告)号: | CN104078837B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
| 发明(设计)人: | 沈燕;刘青;刘欢;张木青;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01S5/042 | 分类号: | H01S5/042 |
| 代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司37219 | 代理人: | 吕利敏 |
| 地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 gan 蓝绿 激光二极管 器件 制作方法 | ||
1.一种GaN基蓝绿光激光二极管器件,其特征在于,该二极管器件包括由下而上设置的第二衬底、GaN基外延层和N电极,在GaN基外延层的P型面为周期性的脊波导条状结构,在所述脊波导条状结构的表面设置有有P电极,所述P电极宽度小于脊波导条状结构表面的宽度,所述P电极也呈脊波导条状,所述P电极包括底面和倾斜阶梯侧边,所述P电极的底面与所述第二衬底相连,所述P电极的倾斜阶梯侧边与所述第二衬底通过焊接层相连。
2.根据权利要求1所述的一种GaN基蓝绿光激光二极管器件,其特征在于,所述GaN基外延层由下而上分别为P型层、有源区和N型层。
3.一种如权利要求1所述GaN基蓝绿光激光二极管器件的制作方法,其特征在于,该方法包括步骤如下:
(1)异质外延生长GaN基激光外延片;
(2)在GaN基激光外延片的P型面制备出脊波导条状结构;
(3)在GaN基激光外延片的脊波导条状结构的表面制备P电极,所述P电极的宽度小于所述脊波导条状结构的表面宽度;
(4)通过在GaN基激光外延片的P型面覆盖键合金属层,将其焊接到第二衬底上;
(5)去除第一衬底即原生长衬底,露出GaN基激光外延片的N型面;
(6)在所述的N型面上制备N电极;
(7)在所述的N型面上、且沿与脊波导条状结构相垂直的方向,切割出激光器腔面巴条,其深度透过有源区;制成具有激光器腔面巴条的GaN基激光外延片;
(8)沿所述激光器腔面巴条对步骤(7)的GaN基激光外延片巴条解离,形成单个巴条;
(9)对步骤(8)解离成的单个巴条腔面镀膜;
(10)将步骤(9)所述的巴条解离成单个芯粒后,封装器件,得GaN基蓝绿光激光二极管器件。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,步骤(2)中利用光刻掩膜在GaN基激光外延片的P型面光刻出脊波导条状结构窗口。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,利用干法刻蚀在步骤(2)所述的脊波导条状结构窗口刻蚀出脊波导条状结构。
6.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,步骤(3)在制备P电极之前,首先在所述脊波导条状结构表面的非欧姆接触区覆盖钝化膜,其次便在脊波导条状结构表面的欧姆接触区制备P电极即可。
7.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,步骤(5)中,去除第一衬底即原生长衬底露出GaN基激光外延片的N型面,是根据不同材质的第一衬底选择不同设备工艺对齐去除:当第一衬底为蓝宝石衬底时,则优选激光剥离工艺;当第一衬底为Si衬底时,则优选化学腐蚀工艺或干法刻蚀工艺。
8.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,所述第二衬底为Ge基板、GaAs基板或Si基板。
9.根据权利要求3所述的制作方法,其特征在于,在步骤(7)切割出激光器腔面巴条之前,在所述N型面制备出激光器巴条腔面窗口,该窗口按照晶体的天然晶面、通过腐蚀或光刻对位的方式获得;步骤(7)中,利用干法刻蚀或锯片切割划裂工艺切割出激光器腔面巴条。
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