[发明专利]一种新型蚀刻片连续曝光机及其工艺方法

权利要求书

1.一种新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，包括：上台框与下台框，所述上台框设于所述下台框上方，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域，所述上台框与下台框均为矩形，所述下台框下侧面顶角处均设有一小气缸，所述上框台下侧面顶角处均设有一大气缸，所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板，所述小气缸与所述大气缸均连接于所述支撑板顶面，每一所述支撑板的长度长于所述上台框与所述下台框的长度，两所述支撑板之间设有一滚轴，且所述滚轴位于曝光区域的一侧，所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮。

2.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，每一所述支撑板顶面位于所述大气缸的外侧各设有一上灯滑轨支架，两所述上灯滑轨支架之间设有一上灯滑轨。

3.根据权利要求2所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述上灯滑轨下侧设有上发光元件。

4.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，两所述支撑板之间且位于所述下台框下方设有一下灯滑轨。

5.根据权利要求4所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述下灯滑轨上方设有一下发光元件。

6.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述支撑板顶面呈阶梯型，所述支撑板顶面由高至下依次为小气缸、大气缸以及上灯滑轨支架。

7.一种新型蚀刻片连续曝光机及其使用方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：

步骤一，在滚轴上安装需要进行曝光的产品；

步骤二，滚动固定传送滑轮将产品一端插入固定传送滑轮内；

步骤三，利用小气缸控制下台框向下，大气缸控制上台框向上，将滚动固定传送滑轮传出的产品送入曝光区域内；

步骤四，利用小气缸控制下台框向上，大气缸控制上台框向下，通过所述上台框与下台框夹住产品，并进行曝光；

步骤五，对产品完成曝光，利用小气缸控制下台框向下，大气缸控制上台框向上，将曝光完的产品送出曝光区域。

8.根据权利要求7所述的新型蚀刻片连续曝光机的工艺方法，其特征在于，当小气缸控制下台框向上，大气缸控制上台框向下，进行对产品夹紧的同时固定传送滑轮停止转动。