[发明专利]一种场发射平面光源及其制备方法

权利要求书

1.一种场发射平面光源，包括阳极、栅极、阴极和隔离体，所述阳极、栅极、阴极和隔离体形成一真空密封的腔体，其特征在于，

所述阳极依次包括阳极基板、阳极导电层和发光层；

所述隔离体包括隔离主体和侧壁支撑体，所述隔离主体开设有一漏斗状通孔，所述隔离主体的大开口端与所述发光层相接；

所述栅极开设能使由阴极发射的电子通过的栅极通孔，所述栅极通过侧壁支撑体夹心设置在所述隔离主体的小开口端与所述阴极之间；

所述阴极依次包括阴极发射体、阴极导电层和阴极基板，所述阴极基板表面设置有弧形凹槽，所述阴极导电层设置在所述阴极基板上表面，所述阴极发射体设置在所述弧形凹槽内的所述阴极导电层上表面。

2.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述隔离主体小开口端开口口径小于所述栅极通孔的孔径。

3.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极发射体与所述栅极通孔和所述隔离主体漏斗状通孔处于同一轴线位置。

4.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阳极基板的材质为玻璃，所述阳极导电层为金属铝、金或银层，或者铟锡氧化物层，所述发光层为可激发出波长为420nm～480nm蓝光的荧光粉层。

5.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述隔离体的材质为陶瓷、玻璃或碳化硼。

6.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述栅极的材质为铜。

7.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极基板的材质为玻璃，所述阴极导电层为金属铝、金或银层，或者铟锡氧化物层，所述阴极发射体的材质为碳纳米管。

8.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述阴极基板表面设置弧形凹槽的区域与所述栅极通孔的形状均为圆形，所述区域的直径等于所述栅极通孔的口径。

9.如权利要求1所述的一种场发射平面光源，其特征在于，所述弧形凹槽为半圆形凹槽或半椭圆形凹槽。

10.一种场发射平面光源的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在阳极基板上采用制备阳极导电层，然后在所述阳极导电层表面设置发光层，得到阳极；

在阴极基板表面设置有弧形凹槽，在所述阴极基板表面设置阴极导电层，然后在所述弧形凹槽内的所述阴极导电层上表面设置阴极发射体，得到阴极；

采用绝缘材料制作隔离体，所述隔离体包括隔离主体和侧壁支撑体，所述隔离主体开设有一漏斗状通孔；

制备开设有能使由阴极发射的电子通过的栅极通孔的栅极；

将所述阳极、栅极、阴极和隔离体进行组装，所述隔离主体的大开口端与所述发光层相接，所述栅极通过侧壁支撑体夹心设置在所述隔离主体的小开口端与所述阴极之间，所述阳极、栅极、阴极和隔离体组装形成一腔体，真空密封所述腔体，制得场发射平面光源。