[发明专利]金属氧化层高温光学常数测量方法

权利要求书

1.一种金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、提供多份具有不同厚度金属氧化层的氧化金属样品，分别测量多份氧化金属样品的金属氧化层的厚度；

S2、利用高温光谱发射率测量实验台，在真空环境下分别测量每份氧化金属样品的法向光谱发射率；

S3、根据各氧化金属样品的法向发射率，建立光学常数数学模型，并以此计算出氧化金属样品的金属氧化层的光学常数。

2.如权利要求1所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，还包括制备表面特性一致的多份同种金属样品；然后在相同的温度下分别进行有时长差的氧化处理，得到多份具有不同厚度金属氧化层的氧化金属样品的步骤。

3.如权利要求2所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，所述金属样品在空气氛围高温加热炉内进行氧化处理。

4.如权利要求3所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，所述高温光谱发射率测量实验台具有真空腔作为实验腔体，所述真空腔内设有样品支架、高温石墨辐射加热器和样品温控单元；

所述样品支架用于固定氧化金属样品，所述高温石墨辐射加热器对氧化金属样品进行加热；所述样品温控单元通过控制高温石墨辐射加热器对氧化金属样品进行加热。

5.如权利要求4所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，所述真空腔外壁上设有光学窗口，光谱辐射仪通过所述光学窗口进行样品光谱辐射强度测量，进而获得稳定温度状态下的样品光谱发射率数据。

6.如权利要求5所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，还包括：将待测氧化金属样品放置于所述样品支架上，通过所述高温石墨辐射加热器对氧化金属样品加热，所述样品温控单元实时测量氧化金属样品的温度，通过温度信息反馈控制调整高温石墨辐射加热器的加热功率，以使样品加热到所需的稳定温度状态，进而通过光谱辐射仪测量样品光谱辐射强度，以获得稳定温度状态下的样品光谱发射率数据。

7.如权利要求1所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，还包括建立氧化金属样品的法向光谱发射率与金属氧化层光学常数及氧化层厚度的关系式，以及光学常数求解方程组，将测得的各个氧化金属样品的法向光谱测量值和厚度带入关系式及方程组中，联立方程组求解金属氧化层的光学常数。

8.如权利要求1所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，还包括：

S4、测得的金属氧化层光学常数可用于计算预测具有已知金属氧化层厚度的氧化金属样品的发射率。

9.如权利要求1-8任一项所述的金属氧化层高温光学常数测量方法，其特征在于，所述多份氧化金属样品的金属基底成分、金属基底表面特征和金属氧化层的成分均相同。