[发明专利]彩色微透镜阵列及其制备方法

权利要求书

1.一种彩色微透镜阵列制备方法，其特征在于，所述方法至少包括：

提供基底；

通过热熔工艺在基底上制备微透镜阵列母版；

将聚二甲基硅氧烷黏稠液覆盖在所述母版上，制得带有凹形微透镜阵列的聚二甲基硅氧烷软印章；

将聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在另一基底的颜色光阻剂上，制得微透镜阵列；

重复上述步骤，利用不同的颜色光阻剂，可以制备不同颜色的微透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将聚二甲基硅氧烷黏稠液覆盖在所述母版上，制得聚二甲基硅氧烷软印章，包括：

将预聚体和固化剂按照体积比为10：1进行混合，制得聚二甲基硅氧烷黏稠液；

将所述聚二甲基硅氧烷黏稠液完全覆盖所述微透镜阵列母版，在85℃时烘烤30分钟后使其固化；

将固化的聚二甲基硅氧烷层从所述微透镜阵列母版上剥离，得到带有凹形微透镜阵列的聚二甲基硅氧烷软印章。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列图形转移到另一基底的颜色光阻剂上，制得微透镜阵列，包括：

提供另一片基底；

在所述基底上旋涂红色光阻剂，制得红色光阻剂基底；

将所述聚二甲基硅氧烷软印章压在红色光阻剂上，所述聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在所述另一基底的红色光阻剂上，制得只能透过红色的微透镜阵列。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述提供另一片基底，包括：

将所述另一片基底用清水和丙酮清洗后臵于烘箱中，在130℃时烘烤10分钟。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述基底上旋涂红色光阻剂，制得红色光阻剂基底，包括：

将旋涂后的红色光阻剂臵于真空烤箱内，在80℃时烘烤2分钟。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述聚二甲基硅氧烷软印章压在红色光阻剂上，所述聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在所述另一基底的红色光阻剂上，制得只能透过红色的微透镜阵列，包括：

将所述聚二甲基硅氧烷软印章和所述另一基底的红色光阻剂基底放在烘箱内，在90℃时烘烤2分钟；

将所述聚二甲基硅氧烷软印章压在另一基底的红色光阻剂上，在所述聚二甲基硅氧烷软印章上放臵0.5㎏的平整重物，保持90℃和重物压力，10分钟后自然冷却；

透过所述聚二甲基硅氧烷软印章对另一基底的红色光阻剂进行紫外曝光，曝光剂量为150mJ；

将曝光后的所述另一基底的红色光阻剂臵于烤箱内在230℃时烘烤固化120分钟；

将所述聚二甲基硅氧烷软印章与所述另一基底的红色光阻剂分离，制得所述只能透过红色的微透镜阵列。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述提供基底，包括：

取一片透光率高，表面平整的玻璃片作为基底；

将基底用清水和丙酮清洗后臵于烘箱中，在130℃时烘烤10分钟。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过热熔工艺在基底上制备光刻胶微透镜阵列母版，包括：

将正光刻胶旋涂于清洗好的基底上，经过烘烤后，将带有光刻胶的基底臵于事先制备好的圆孔掩膜版下进行紫外曝光；

将曝光过的基底臵于质量百分比5%的氢氧化钠溶液中，显影出圆柱形图案；

将制备的带有圆柱形图案的光刻胶的基底臵于真空烘箱内，加热至125℃，加热时间为60秒；

光刻胶融化，自动形成微透镜的形状，在烘箱内自然冷却，制得微透镜阵列母版。

9.一种彩色微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列包括依次层叠连接的另一基底、颜色光阻剂和微透镜。

10.根据权利要求9所述的微透镜阵列，其特征在于，所述基底为一片透光率高，表面平整的玻璃片。

11.根据权利要求9所述的微透镜阵列，其特征在于，所述颜色光阻剂旋涂于另一基底上。

12.根据权利要求9所述的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列是将聚二甲基硅氧烷软印章上的微透镜阵列结构复制在另一基底的颜色光阻剂上制得的。