[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及对多张基板进行处理的技术，上述基板是半导体基板、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示器用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等（下面，仅称为“基板”）。

背景技术

具有对基板进行处理的各种基板处理装置。例如，在专利文献1的基板处理装置中：利用基板交接部来连接分度器区和清洗处理区，其中，分度器区用于汇集未处理基板以及已处理基板，清洗处理区用于对基板进行清洗处理。在分度器区及清洗处理区上分别配置有各单元专用的搬送机械手。

在这样的基板处理装置中，考虑到清洗基板的背面的情况，在装置内设置有使基板的内外翻转的翻转部。例如，在专利文献1的基板处理装置的清洗处理区内配置有翻转部。另外，在专利文献2中记载有翻转清洗单元，该翻转清洗单元使基板翻转并且清洗基板的背面。另外，在专利文献3、4中记载有在搬送机械手之间的中转部上使基板的内外翻转的结构。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-146975号公报

专利文献2：日本特开平10-321575号公报

专利文献3：日本特开2009-252888号公报

专利文献4：日本专利第4287663号公报

在搬送机械手之间的中转部上配置有使基板的内外翻转的翻转部的装置结构中，一个搬送机械手将基板搬入至翻转部，在使该基板翻转之后，将该基板搬出至另一个搬送机械手。即，能够将使基板翻转的功能部用作在搬送机械手之间交接基板的交接部。根据该结构，例如，与在仅由一个搬送机械手能够访问的位置上配置翻转部的装置结构相比，能够减少搬送机械手的工序的数目。其结果，能够使基板处理装置的处理能力（through put）提高。

另一方面，为了抑制基板处理装置的处理能力下降，需要尽量缩短各搬送机械手的待机时间。例如，在搬送机械手要将基板搬入至交接部时，若交接部被基板占用，则该搬送机械手必须等待由另一个搬送机械手从交接部搬出基板。为了尽量避免这样的情况，优选在搬送机械手之间的中转部上设置多个交接部。

但是，在基板逐渐被大型化的近几年中，使基板翻转所需的空间变大，伴随于此，翻转部也逐渐被大型化。因此，例如，在中转部上层叠设置了所需的个数的交接部和翻转部的情况下，随着翻转部的高度尺寸的增加，搬送机械手的手部的上下方向上的移动距离（行程）增加，这些直接导致处理能力降低。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而做出的，其目的在于，提供一种能够提高基板处理装置的处理能力的技术。

第一方式的基板处理装置，具有：处理部，其具有对基板的表面进行清洗的表面清洗部、对基板的背面进行清洗的背面清洗部、第一搬送机械手，分度器部，其具有第二搬送机械手，该分度器部将未处理的基板递给上述处理部，并且从上述处理部接收已处理的基板，交接单元，其配置在上述处理部和上述分度器部之间的连接部分上；上述交接单元具有：第一支撑部，其将基板支撑为水平姿势，第二支撑部，其在上下方向上与上述第一支撑部隔开间隔地配置，并将基板支撑为水平姿势，翻转机构，其使支撑在上述第一支撑部上的基板翻转，并将翻转后的基板再次支撑在上述第一支撑部上；支撑于上述第二支撑部上的基板的一部分，配置在由上述翻转机构翻转的基板的翻转区域内。

第二方式为第一方式的基板处理装置，将未处理的基板从上述第二搬送机械手向上述第一搬送机械手的交接，是利用上述第一支撑部和上述第二支撑部中的一个支撑部来进行的。

第三方式为第二方式的基板处理装置，将未处理的基板从上述第二搬送机械手交接给上述第一搬送机械手的交接路径，是根据针对每个基板组分别设定的方案（recipe），来在经由上述第一支撑部的交接路径和经由上述第二支撑部的交接路径之间择一性地进行切换的。

第四方式为第一方式至第三方式中任一方式的基板处理装置，上述第二支撑部配置在上述第一支撑部的上侧。

第五方式为第二方式至第四方式中任一方式的基板处理装置，上述交接单元还具有第三支撑部，该第三支撑部配置在上述第二支撑部的上侧，并且将基板支撑为水平姿势；将已处理的基板从上述第一搬送机械手向上述第二搬送机械手的交接，是经由上述第三支撑部来进行的。

第六方式为第一方式至第五方式中任一方式的基板处理装置，该基板处理装置具有多个上述第一支撑部；上述翻转机构使支撑在多个上述第一支撑部上的多个基板一并翻转。