[发明专利]电致变色显示器

说明书

技术领域

本发明涉及电致变色显示器（ECD）。

背景技术

已知利用由于施加电压引起的电化学可逆反应（电解氧化还原反应）而使基板发生变色现象的非发射显示器是电致变色显示器（参见例如日本已审专利申请第1-28927号公报）。

由于电致变色显示器被电流驱动，所以电致变色显示器的布线（引线）电阻应被减小。例如，在显示字符时，显示器电极的引线电阻越高，会导致对比度越低（色密度越低）并且更远的像素的驱动电压越高。

为了减小引线电阻，用于显示器电极的引线可以具有大的宽度，但应被设计为不与用于对向电极（counter electrode）的引线相干扰（交叠）。因而，用于显示器电极的引线的宽度是受限的。更具体地，当用于显示器电极的引线和用于对向电极的引线在单元表面上交叉时，交叉也充当像素并且导致重合失调（misregistration）。

引线可以由电阻率低的材料制成。然而，在电致变色显示器中，布置在基板的至少一侧上的电极必须由诸如ITO的透明导电材料制成。因此难以防止远的像素对显示图像的不利影响。

在电致变色显示器中，像素的边缘（电极的边缘）通常在颜色上趋于变得更暗。具体地，这导致字符的显示的变化以及低的显示质量。字符的显示的变化在具有大显示区域的像素中特别明显。

根据日本已审专利申请第1-28927号公报的本发明可以应用于导致界面膜（interfacial film）的着色和去色的电致变色显示器，但是无法应用于导致在体（bulk）中的着色和去色的电致变色显示器。此外，因为难以将第二电极图形化，所以仅可以进行静态驱动（无法进行占空驱动）。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够产生高质量图像的电致变色显示器。

根据本发明的一个方面，一种电致变色显示器包括：显示基板，所述显示基板包括第一基板上的至少一个显示电极以及所述至少一个显示电极上或上方的绝缘膜；对向基板，所述对向基板具有在第二基板上的对向电极，所述对向基板面对所述显示基板；以及显色层，所述显色层包含电致变色材料，所述显色层布置在所述显示基板与所述对向基板之间的被密封件包围的区域中，其中，在被所述密封件包围的区域中，所述绝缘膜被布置在所述至少一个显示电极上或所述至少一个显示电极上方除所述显示电极的显示区域之外的部分。

本发明可以提供能够产生高质量图像的电致变色显示器。

附图说明

图1A至图1D是例示了用于制造根据第一实施方式的电致变色显示器的方法的示意图。

图2A至图2D是例示了用于制造根据第三实施方式的电致变色显示器的方法的示意图。

图3是示出了显示区域中的透光率对波长的依赖关系的曲线图。

具体实施方式

图1A至图1D是例示了用于制造根据第一实施方式的电致变色显示器的方法的示意图。第一实施方式是体型电致变色显示器。

如图1A所示，制备了一对玻璃基板（透明基板）51a和51b。将ITO膜52a和52b分别布置在玻璃基板51a和51b上。

如图1B所示，通过光刻工艺将ITO膜52a和52b图形化，以在玻璃基板51a和51b上分别形成显示电极53a和对向电极53b。显示电极53a和对向电极53b由ITO制成（透明导电材料）。

优选地，ITO膜52a和52b被图形化，使得ITO膜52a和52b的大部分被保留。可以仅考虑占空区域，而不需要考虑引线的干扰。利用王水混合酸的水溶液来执行刻蚀。刻蚀剂可以是铁（III）氧化物。可以由激光烧蚀将ITO膜52a和52b图形化。

虽然在本实施方式中将透明电极53a和53b形成在透明基板51a和51b上，但是基板51a和51b中的一个可以是不透明基板，并且不透明基板上的电极可以是不透明的。不透明的电极可由银合金、金、铜、铝、镍或钼制成。透明电极53a和53b可以由ITO以外的透明导电材料制成。

接着将厚度在3000埃至4000埃的范围内的SiO₂膜54a作为绝缘膜形成在显示电极53a的一部分上。SiO₂膜54a可以具有另一厚度。可以由磁控溅射形成SiO₂膜54a并且可以利用SUS掩膜将其图形化。可以由剥离（lift-off）方法或光刻工艺将SiO₂膜54a图形化。在这种情况下，使用不会对ITO电极53a造成损伤的湿法刻蚀条件或干法刻蚀条件。