[发明专利]离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法

权利要求书

1.一种离子束照射装置，其特征在于，

所述离子束照射装置包括：

盒，用于收纳多个基板；

处理室，在该处理室内对所述基板进行离子束照射处理；

基板输送部，在所述盒和所述处理室之间进行多次基板更换，所述基板更换是对收纳在所述盒内的未处理的基板与在所述处理室内经过离子束照射处理的处理过的基板进行更换；以及

离子束供给部，产生离子束，并向所述处理室内供给所述离子束，

与通过所述基板输送部进行的多次基板更换作业中的至少一次基板更换作业并行地，对所述离子束供给部的运转参数进行设定变更并对所述离子束供给部内进行清洗。

2.根据权利要求1所述的离子束照射装置，其特征在于，

所述离子束照射装置还包括存储装置，该存储装置存储有用于清洗所述离子束供给部内的清洗用运转参数，

在清洗所述离子束供给部内时，从所述存储装置读出所述清洗用运转参数。

3.根据权利要求2所述的离子束照射装置，其特征在于，

所述存储装置中存储有多个所述清洗用运转参数，

根据所述离子束照射装置的运转时间、离子束照射条件以及在所述离子束供给部发生的放电次数中的任意一项，从所述存储装置读出所述清洗用运转参数。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的离子束照射装置，其特征在于，

所述离子束照射装置还包括离子束电流测量仪，该离子束电流测量仪设置在所述处理室内，对所述离子束的电流进行测量，

从所述离子束供给部内的清洗结束起经过规定时间之后，开始利用所述离子束电流测量仪进行测量。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的离子束照射装置，其特征在于，

所述离子束供给部包括：

等离子体生成容器，掺杂气体导入该等离子生成容器，在该等离子生成容器的内部生成等离子体；以及

引出电极系统，由多个电极组构成，用于从在所述等离子体生成容器内生成的等离子体引出离子束，

在所述离子束供给部内的清洗结束之后、且在导入所述等离子体生成容器内的所述掺杂气体的导入量达到规定量之后，通过向所述引出电极系统施加规定电压来引出所述离子束。

6.根据权利要求4所述的离子束照射装置，其特征在于，

所述离子束供给部包括：

等离子体生成容器，掺杂气体导入该等离子生成容器，在该等离子生成容器的内部生成等离子体；以及

引出电极系统，由多个电极组构成，用于从在所述等离子体生成容器内生成的等离子体引出离子束，

在所述离子束供给部内的清洗结束之后、且在导入所述等离子体生成容器内的所述掺杂气体的导入量达到规定量之后，通过向所述引出电极系统施加规定电压来引出所述离子束。

7.一种离子束照射装置的运转方法，其特征在于，

所述离子束照射装置包括：

盒，用于收纳多个基板；

处理室，在该处理室内对所述基板进行离子束照射处理；

基板输送部，在所述盒和所述处理室之间进行多次基板更换，所述基板更换是对收纳在所述盒内的未处理的基板与在所述处理室内经过离子束照射处理的处理过的基板进行更换；以及

离子束供给部，产生离子束，并向所述处理室内供给所述离子束，

所述离子束照射装置的运转方法使所述离子束照射装置与通过所述基板输送部进行的多次基板更换作业中的至少一次基板更换作业并行地，对所述离子束供给部内进行清洗。