[发明专利]用于浸没式光刻的浸液温控装置

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：

用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；

用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷却液在该回路中循环流动；以及

多个热交换器（7，8，9，10），其沿流向依次布置，所述浸液管路和工艺冷却水回路同时流经每个热交换器，并利用各热交换器（7，8，9，10）分别依次完成工艺冷却液和浸液之间的热交换，从而通过多次换热获得具有稳定温度的浸液，实现对浸液的温度控制。

2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液管路上在至少一个热交换器后设置有分支管路作为回流点，用于将经该热交换器进行热交换处理后的浸液部分回流，以重新进入浸液管路与热交换前的浸液混合。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述作为回流点的分支管路为一个，其设置在任一个热交换器（7，8，9，10）后的浸液管路上。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述作为回流点的分支管路为多个，其各自分别设置在不同的热交换器后的浸液管路上。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却水回路上设置有与所述每一个热交换器（7，8，9，10）分别对应的电液伺服阀（11，12，13，14），用于控制流经各对应的所述热交换器的工艺冷却水流量，从而实现对浸液温度的精确控制。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液管路上设置有多个温度传感器（15，16，17，18），每个温度传感器与一个热交换器对应，分别用于检测经各热交换器（7，8，9，10）后的浸液温度，各温度传感器（15，16，17，18）均分别对应与一控制电液伺服阀（11，12，13，14）的温度控制器（3，4，5，6）连接，所述各温度传感器（15，16，17，18）检测的温度值反馈给对应的温度控制器（3，4，5，6），以用于各温度控制器控制对应的所述电液伺服阀对工艺冷却液进行流量控制，实现精确的温度控制。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液管路上在还依次设置有单向阀（21）和增压泵（20），待温控的浸液经过所述单向阀（21）并利用所述增压泵（20）增压后再流经所述各热交换器（7，8，9，10）进行热交换。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却液回路上设置有冷却液产生装置，用于产生所述工艺冷却液。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述工艺冷却液为水。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，其特征在于，所述浸液为超纯水。