[发明专利]一种清晰显示NiCrMoV型转子钢原始奥氏体晶界的金相腐蚀方法无效

专利信息
申请号: 201310077143.8 申请日: 2013-03-12
公开(公告)号: CN103175726A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 刘鹏;刘霞;赵炳戈;高玉来 申请(专利权)人: 上海大学;上海电气电站设备有限公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 何文欣
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 清晰 显示 nicrmov 转子 原始 奥氏体 金相 腐蚀 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于金相样品制备领域,特别涉及到一种清晰显示NiCrMoV型转子钢原始奥氏体晶界的金相腐蚀方法。

背景技术

钢的原始奥氏体晶粒直接影响后续处理过程中组织的变化。原始奥氏体晶粒不仅影响钢的强度,也对冷脆转变和断裂等材料的力学性能有较大影响。此外,奥氏体晶粒大小也影响钢的相变行为从而影响钢的强化能力。因此准确显示钢的奥氏体晶粒具有十分重要的意义。

关于原始奥氏体的显示方法有很多,罗宏等采用过饱和苦味酸+十二烷基苯磺酸钠的浸蚀剂清晰地显示了珠光体型耐热钢调质后的原始奥氏体晶界(罗宏, 曾辉. 珠光体耐热钢调质处理后的晶界显示. 金属热处理, 2006, 30(12): 91-92.)。钟云龙等用饱和苦味酸、十二烷基苯磺酸钠及双氧水按一定比例配制成的溶液清楚显示出油井管钢33Mn2V的原奥氏体晶界(钟云龙, 刘国权, 刘胜新, 等. 新型油井管钢33Mn2V的奥氏体晶粒长大规律. 金属学报, 2003, 39(7): 699-703.)。然而,对于NiCrMoV转子钢的原始奥氏体晶粒显示,上述几种腐蚀剂的显示效果并不明显。

在经过反复的摸索实践及多种试剂的对比后,本发明采用饱和苦味酸溶液+十二烷基苯磺酸钠+稀盐酸的腐蚀剂,在75℃恒温水浴中浸蚀,很好地显示调质状态后的NiCrMoV型转子钢的原始奥氏体晶界。

本发明申请人采用原始奥氏体晶粒+转子钢(original austenite grain +rotor steel)作为关键词检索了美国专利文摘(USPTO)、欧洲专利文摘(EP—PCT)、《中国专利信息网》以及《中华人民共和国国家知识产权局专利检索》,没有发现同类专利。

发明内容

本发明的目的是提供了一种显示NiCrMoV型转子钢原始奥氏体晶界的金相腐蚀方法,解决了经过长时间高温回火处理后的NiCrMoV型转子钢的原始奥氏体晶粒显示困难的难题。

本发明的目的是通过下述技术方案实现的。

一种清晰显示NiCrMoV转子钢原始奥氏体晶粒的金相腐蚀方法具有以下工艺过程和步骤:

a 粗磨:将切割好的金相试样放在砂轮上进行打磨,磨去表面的氧化皮并粗略磨平,将打磨好的试样依次放在240目、400目、600目、800目和1000目的砂纸(砂纸置于光滑的玻璃板上)上进行研磨。磨制过程中,需经常观察磨制表面以确保所有的划痕都沿着该道次的研磨方向且无明显粗大的划痕,在进行下一道次的磨制时应将试样旋转90°后再继续研磨。

b 细磨-抛光:将粗磨好的试样先后放在1500目和2000目的砂纸上进行研磨,研磨方法与粗磨相同。将磨好的试样清洗干净,在抛光布上进行抛光,流水清洗磨抛碎屑,抛光剂采用1.0 μm的金刚石抛光膏。将抛光后的样品用酒精清洗并吹干,放在金相显微镜下观察无明显的划痕。

c 腐蚀:将抛光好的试样放入75℃的腐蚀液中,腐蚀配方为:200ml蒸馏水,4g十二烷基苯磺酸钠,体积分数为5%的稀盐酸2ml,5g苦味酸;将待腐蚀样品表面竖直向下,浸入腐蚀液面下约1cm位置,浸蚀2min后,取出试样,用流水冲洗干净,再用酒精清洗并吹干;在光学显微镜下即可观察到较为清晰的原始奥氏体晶界。由于NiCrMoV型转子钢的原始奥氏体晶粒较小,建议采用较大倍数(200倍或500倍)放大的金相图片进行晶粒组织观察。

腐蚀剂配方和配制过程:

(1)    腐蚀剂的配方为:

a.       200ml蒸馏水,

b.      4g十二烷基苯磺酸钠,

c.       5%稀盐酸2ml,

d.      5g苦味酸;

对于两相或多相合金的化学浸蚀主要是电化学腐蚀过程,由于各组成相具有不同的腐蚀电位,在浸蚀剂中,具有较高负电位的相成为微小原电池的阳极而被迅速溶解,而具有较高正电位的一相作为阴极而很少受到腐蚀而保持近似抛光后的状态。这样即可区分不同的相组织。金属的电化学活性在晶内和晶界不同,由于晶界上的金属活性较大,所以晶界的腐蚀相比晶内略深。

然而,对于经过长时间高温回火处理的NiCrMoV型转子钢,晶内和晶界差异较小,采用普通腐蚀剂无法清晰将晶内和晶界区分开来。为此需要探索一种新的腐蚀剂促进晶界腐蚀或抑制晶内腐蚀以达到清晰显示原始奥氏体晶粒的目的。

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