[发明专利]镀外缘全封闭带的镀膜工装

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜工装，特别是涉及一种镀外缘全封闭带的镀膜工装，主要适用于磁控溅射镀膜设备技术领域。

背景技术

目前磁控溅射镀膜是属于PVD镀膜方式的一个分支，该镀膜法是指，在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜，由于磁控溅射镀膜机技术具有，成膜工艺处理温度低，瞬间温度不超过200℃，不会热灼伤被镀件，结合强度高，不污染环境，被广泛运用于汽车反光镜、手机面板、汽车内外饰件的镀膜。

由于镀膜产品的多样性决定，需要对产品进行部分区域镀膜，而通常使用的遮蔽式镀膜工装，往往只实现中间部分镀膜边缘部分遮蔽的形式，要实现边缘部分镀膜中间部分遮蔽，通常会选用贴PET薄膜遮蔽，镀膜后再移除，或者使用丝网印刷涂覆遮蔽非镀膜区域，镀膜后再除去涂胶，而以上两种方式成本高，轮廓度偏离大，边缘难以平滑，工艺流程长，增加了不良品产生的几率。如，中国专利公开了公开号为CN202430282U的一种新型的磁控溅射镀膜基片夹具，该新型的磁控溅射镀膜基片夹具为镂空框架结构，所述镂空框架底部为镂空挡板，覆盖基片背面四边，所述镂空挡板内表面四个角上用螺丝固定安装四个同样大小的垫子，所述镂空框架正上端设置有一挡板。该新型的磁控溅射镀膜基片夹具遮挡边缘部分，无法进行外缘全封闭带的镀膜。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的上述不足，而提供一种结构设计合理，使用方便，可实现镀外缘全封闭带，镀膜精确度高，成膜位置准确，边缘清晰无阴影，可镀任意形状的外缘全封闭的镀膜带，成本较低的镀外缘全封闭带的镀膜工装。

本发明解决上述问题所采用的技术方案是：该镀外缘全封闭带的镀膜工装，包括主干框架，主干框架上设置至少一个架设基片的架设单元，所述架设单元包括遮挡片、遮挡片固定梁和被镀膜片支撑固定架，所述遮挡片固定梁的两端固定在主干框架上，该遮挡片固定梁位于主干框架的镀膜面，所述遮挡片上设置有固定孔，遮挡片通过所述固定孔与遮挡片固定梁固定，遮挡片与主干框架平行，所述被镀膜片支撑固定架位于主干框架的非镀膜面的同一侧，该被镀膜片支撑固定架的一端通过转轴与主干框架活动连接，所述主干框架上设有卡座，被镀膜片支撑固定架的另一端与卡座相配合，所述被镀膜片支撑固定架位于架设单元的上方，所述遮挡片的边缘与所述架设单元的边缘之间有一圈间隙。遮挡片用于遮蔽被镀膜片的被镀面的非镀膜部分，遮挡片固定梁用于固定遮挡片，被镀膜片支撑固定架用于固定被镀膜片的位置，竖镀时可防止被镀膜片移动，遮挡片的边缘与所述架设单元的边缘之间的一圈间隙使被镀膜片的镀膜部分裸露。

本发明每个架设单元还包括至少三个被镀膜片基准定位支撑点，所述被镀膜片基准定位支撑点位于架设单元的边缘。被镀膜片基准定位支撑点主要起到定位被镀膜片的作用。

本发明所述遮挡片的边缘用CNC或慢走丝加工，表面粗糙度Ra=0.8μm以下，遮挡片的固定孔与轮廓一次装夹，确保位置度小于0.05mm，遮挡片的双面经过平面磨床加工，遮挡片与被镀膜片的贴合面的平面度小于0.05。使外缘全封闭带成膜位置准确，边缘清晰无阴影。

本发明所述遮挡片固定梁与被镀膜片的被镀面的距离≥28mm，该遮挡片固定梁的宽度≤6.5mm。可实现磁控溅射镀膜机靶材通过氩离子轰击后，镀膜材料被均匀溅落在镀膜区域。

本发明所述遮挡片固定梁的两端的棱角处设有两个1.6×45°的倒角。可提升固定梁下方的玻璃膜层厚度的均匀性。

本发明所述架设单元的边缘与被镀膜片的间隙≤1.27mm。防止被镀膜片的边沿由于绕射效应也会被镀上膜层，影响产品档次和外观。

本发明所述遮挡片与主干框架的镀膜一侧的平面之间的距离为12mm。用于消除绕射的膜层沉降。主干框架的镀膜一侧即遮挡片所在的一侧。

作为优选，架设单元为六个。

本发明与现有技术相比，具有以下优点和效果：结构设计合理，使用方便，可镀任意形状的外缘全封闭的镀膜带，遮挡片用于遮蔽被镀膜片的被镀面的非镀膜部分，遮挡片固定梁用于固定遮挡片，被镀膜片支撑固定架用于固定被镀膜片的位置，竖镀时可防止被镀膜片移动，遮挡片的边缘与架设单元的边缘之间的一圈间隙使被镀膜片的镀膜部分裸露，可实现镀外缘全封闭带，镀膜精确度高，成膜位置准确，边缘清晰无阴影，被镀膜片基准定位支撑点主要起到定位被镀膜片的作用，另外可防止擦伤磁控溅射镀膜机内的玻璃，遮挡片与主干框架的镀膜一侧的平面之间的距离为12mm，可消除绕射的膜层沉降，成本较低，适用于横镀和竖镀两种腔体。