[发明专利]检测装置和图像形成装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种检测装置和图像形成装置。

背景技术

日本专利No.4154272（专利文献1）公开了一种光学传感器，其包括：至少一个发光单元；第一光接收单元，其接收从对应的发光单元发射的入射光的由照射对象镜面反射的反射光；和第二光接收单元，其接收从对应的发光单元发射的入射光的由照射对象上的物体漫反射的漫反射光。在就在从发光单元发射的入射光到达在入射光到达照射对象时形成的入射光学路径中的对应的照射对象之前形成的入射光学路径的中心线与就在镜面反射光从在来自对应的照射对象的镜面反射光到达第一发光单元时形成的镜面反射光学路径中的对应的照射对象镜面反射之后形成的镜面反射光学路径的中心线之间形成的角度被设置为25°以下。从发光单元发射的入射光的光阑直径被设置为大于朝向第一发光单元行进的镜面反射光的光阑直径。

JP-A-2002-162803（专利文献2）公开了一种彩色图像形成装置，其包括：感光体；多个图像站，其具有将形成在感光体上的潜像显影为色调剂图像的显影单元；多个曝光单元，其利用光照射多个图像站中的各感光体以形成潜像；以及转印单元，其将形成在多个图像站上的色调剂图像转印并传输到转印材料。彩色图像形成装置通过将多个图像站中显影的色调剂图像顺序地叠加到转印材料上来形成组合图像。为了在多个图像站上形成预定的抗蚀剂图案，彩色图像形成装置包括：抗蚀剂图案生成单元，其在多个曝光单元中生成抗蚀剂图案；图案检测单元，其将形成在多个图像站上的抗蚀剂图案形成在转印单元上，并且检测转印单元上的抗蚀剂图案；以及位置偏差校正单元，其基于由图案检测单元检测到的结果校正位置偏差。图案检测单元包括：发光二极管，其利用光照射抗蚀剂图案；光传感器，其检测从转印单元反射的反射光；透镜，其光学地阻止从发光二极管输出的光和/或入射到光传感器的光；以及孔径，其光学地阻止从发光二极管输出的光和/或入射到光传感器的光。

JP-A-2002-55572（专利文献3）公开了一种图像感测装置，其包括：光源单元；照明单元，其具有利用从对应的光源单元发射的射线照射其上形成有图像的记录构件的照射透镜；以及成像单元，其具有在光接收单元的表面上形成形成在对应的记录构件上的图像的成像透镜。图像感测装置基于由对应的光接收单元获得的信号感测对应的记录构件上的图像。在该装置中，当对应的记录构件形成为反射镜表面时，在与对应的光源单元的发光点共轭的位置处或者其附近设置光圈。

JP-A-2007-47432（专利文献4）公开了一种图像形成装置，其包括：转印带，其具有在其表面竖直向下的状态下在基本上水平方向上传输的水平传输部分；多个图像形成站，其通过利用具有预定极性的色调剂显影沿着转印带的传输方向布置的并且保持在分别属于多个图像形成站的潜像载体的表面上的潜像来形成具有不同颜色的色调剂图像；转印单元，其将形成在多个图像形成站的各潜像载体上的具有不同颜色的色调剂图像转印到转印带表面上，并且叠加图像；光传感器，其通过用于校正多个图像形成站之间的色差的抗蚀剂掩模检测形成在转印带表面上的色调剂图像。光传感器包括：壳体，其具有在水平传输部分的竖直下方区域相对的对向面；光接收元件，其布置在壳体中从而其光学轴以相对于竖直方向的预定角度倾斜；光投射针孔，其设置在光接收元件的光学轴上的对向面上并且将从发光元件发射的光导向抗蚀剂掩模；光接收针孔，其设置在从发光元件发射到抗蚀剂掩模的光的通过对应的抗蚀剂掩模的镜面反射光的光学轴上的对向面上；以及光接收元件，其布置在镜面反射光的光学轴上并且位于壳体中，并且接收由光接收针孔引导的镜面反射光。

JP-A-2011-107524（专利文献5）公开了一种光学装置，其包括：照射单元，其利用光照射其上以规律间隔形成有具有各种颜色的多个色调剂图像的中间转印构件或介质；透镜，其设置在来自被照射单元的光照射的中间转印构件或介质的镜面反射光的光学路径中，并且聚集来自中间转印构件或介质的包括漫反射光和镜面反射光的反射光；调光单元，其使由透镜聚集的反射光的漫反射光减少；以及光接收单元，其接收其中由调光单元减少了漫反射光的反射光。

发明内容

本发明的目的在于改进使得光接收单元检测位置偏差量和浓度偏差量的装置中设置在由介质反射的照射光的镜面反射方向上的光接收单元检测到的位置偏差量和浓度偏差量的精度。