[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法无效
| 申请号: | 201310073046.1 | 申请日: | 2013-03-07 |
| 公开(公告)号: | CN104037350A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
| 发明(设计)人: | 周明杰;钟铁涛;张振华;王平 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
| 地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种有机电致发光器件,包括依次层叠结合的透光衬底层、阳极层、有机功能层和阴极层,所述有机功能层包括在外加电源的驱动下发光的发光层,其特征在于:在所述阴极层外表面还层叠结合有依次交替层叠设置的有机物阻挡层和无机物阻挡层,所述无机物阻挡层材料包括互相掺杂的氟化物、硫化物和氧化物;其中,所述氟化物占无机物阻挡层材料摩尔百分数的10%~30%,所述氧化物占无机物阻挡层材料摩尔百分数的10%~30%;且所述氟化物为LiF、CeF2、MgF2、AlF3、CaF2或BaF2,所述硫化物为CdS、PbS、FeS2、CuS、ZnS或NiS,所述氧化物为TiO2、MgO、SiO2、ZrO2、ZnO或Al2O3。
2.如权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述有机物阻挡层材料包括有机材料和氧化物,所述氧化物占所述有机物阻挡层材料的摩尔百分数为30%~50%。
3.如权利要求2所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述氧化物为MoO3、V2O5、WO3、Cs2O、Ni2O或MnO2。
4.如权利要求2或3所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述有机材料为1,1-二((4-N,N’-二(对甲苯基)胺)苯基)环己烷、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、8-羟基喹啉铝、4,4',4''-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺、4,7-二苯基-1,10-邻菲罗啉、1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中的至少一种。
5.如权利要求1~3任一项所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述有机物阻挡层的厚度为200nm~300nm,所述无机物阻挡层的厚度为100nm~200nm。
6.如权利要求1~3任一项所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述有机物阻挡层和无机物阻挡层的交替层叠的次数为4~6次。
7.一种有机电致发光器件的制备方法,包括如下步骤:
在真空镀膜系统中,将所述有机物阻挡层材料蒸镀在阴极层外表面制作有机物功能层;
在真空镀膜系统中,将所述无机物阻挡层材料掺杂共蒸在所述有机功能层外表面制作无机所述阻挡层;
依次在所述无机物阻挡层外表面进行重复制备所述有机功能层和无机物阻挡层的步骤;
其中,在制备所述无机物阻挡层步骤中的所述无机物阻挡层材料包括互相掺杂的氟化物、硫化物和氧化物,所述氟化物占无机物阻挡层材料摩尔百分数的10%~30%,所述氧化物占无机物阻挡层材料摩尔百分数的10%~30%;且所述氟化物为LiF、CeF2、MgF2、AlF3、CaF2或BaF2,所述硫化物为CdS、PbS、FeS2、CuS、ZnS或NiS,所述氧化物为TiO2、MgO、SiO2、ZrO2、ZnO或Al2O3。
8.如权利要求7所述的有机电致发光器件的制备方法,其特征在于:在制备所述有机物功能层和/或无机物阻挡层的步骤中,所述蒸镀时的真空度为1×10-5Pa~1×10-3Pa,所述有机物阻挡层材料蒸发速度为
9.如权利要求7或8所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述有机物阻挡层材料包括有机材料和氧化物,所述氧化物占所述有机物阻挡层材料的摩尔百分数为30%~50%。
10.如权利要求9所述的有机电致发光器件,其特征在于:所述氧化物为MoO3、V2O5、WO3、Cs2O、Ni2O或MnO2。
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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