[发明专利]一种制备高性能钯合金复合膜的方法

权利要求书

1.一种制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：该方法具体步骤如下： 

a)取一定量的Kera Dekor Keramikglasur低温陶瓷釉，与水按照一定比例混合成釉料，经提拉法浸涂、自然晾干、马弗炉高温煅烧，将多孔底膜非目标镀膜处密封； 

b)取一定量的PURAL SB粉，经水合、酸解胶、陈化过程制成Boehmite溶胶，再将Boehmite溶胶与一定比例的有机添加剂PVA和PEG混合均匀制成浸涂溶胶，最后经真空浸涂溶胶、自然晾干、马弗炉高温煅烧，得到目标镀膜处修饰的多孔底膜； 

c)用优化的敏化活化法在步骤b)制得的修饰后多孔底膜上引入钯晶种； 

d)将步骤c)得到的活化后多孔底膜浸入化学镀液中，控制反应温度20-90°C，搅拌速率100-500rpm，反应时间30-500min，可制得不同合金组分、不同厚度的钯合金复合膜。 

2.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤a)中釉料成分中釉粉与水质量比为30:22，自然晾干后的釉于马弗炉中1000-1100°C煅烧30-90min得透明光亮釉面。 

3.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤b)中浸涂溶胶由0.5-1.0mol/L的Boehmite溶胶，加入0.5-2.0wt%的PVA和0.5-2.0wt%的PEG，混合搅拌10-120min制成浸涂溶胶；其中Boehmite溶胶的胶粒平均粒径为5-500nm。 

4.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤b)中所用的多孔底膜为管状的多孔陶瓷底膜、多孔金属底膜或者多孔玻璃底膜。 

5.按照权利要求4所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述多孔底膜的壁厚为0.5-2.0mm，平均孔径为0.5-50μm；其中根据多孔底膜表面粗糙度可修饰1-5次；修饰后多孔底膜的修饰层厚度为5-100μm，平均孔径为2-50nm。 

6.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤c)中优化的敏化活化法为敏化溶液中浸渍1-10min、去离子水清洗1-60s、活化溶液中浸渍1-10min、稀盐酸清洗1-60s、去离子水清洗1-60s，如此步骤重复1-5次。 

7.按照权利要求6所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述敏化溶液为SnCl₂或TiCl₃溶液中的一种，活化溶液为PdCl₂溶液。 

8.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤d)中的化学镀液由金属盐、络合剂、还原剂组成。 

9.按照权利要求8所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述金属盐为钯与铜、镍、银、金、铂金属盐中的一种或多种；所述络合剂为EDTA·2Na、氨水、乳酸中的一种或多种；所述还原剂为水合肼、连二磷酸盐、甲醛中的一种或多种。 

10.按照权利要求1所述制备高性能钯合金复合膜的方法，其特征在于：所述步骤d)中钯合金复合膜的制备过程为，首先化学镀钯，其次化学镀铜、镍、银、金、铂中的一种或多种，再经高温合金化而成。