[发明专利]一种金属热敏光学薄膜及其工艺方法

权利要求书

1.一种金属热敏光学薄膜，其特征是：由单层纳米金属膜或多层金属、非金属纳米膜组成的膜系；薄膜厚度控制在10纳米量级以上10微米量级以下。

2.根据权利要求1所述的金属热敏光学薄膜，其特征是：所述的金属是铬、镍、金、银或铝中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的金属热敏光学薄膜，其特征是：所述的非金属是不含纳米金属颗粒的光学基体材料。

4.根据权利要求1所述的金属热敏光学薄膜，其制造工艺方法是采用喷涂法：将金属材料处理成纳米颗粒粉末，粒度在1~500nm；然后利用分散剂溶解形成纳米金属悬浊液，悬浊液浓度安排为分散剂比例0.2%~10%，使得金属颗粒均匀分散后再次添加有机分散剂，使纳米金属悬浊液形成有效的量子相应阻挡层；再将悬浊液喷涂至光学材料的基体表面并使之固化成纳米金属膜。

5.根据权利要求4所述的金属热敏光学薄膜的工艺方法，其特征是：按照所述喷涂法多次喷涂成多层膜系。

6.根据权利要求5所述的金属热敏光学薄膜的工艺方法，其特征是：在多次喷涂的纳米金属膜之间喷涂其他介质膜，形成具有特殊热敏特性的复合的金属热敏光学薄膜。

7.根据权利要求4所述的金属热敏光学薄膜的工艺方法，其特征是：金属材料处理方法是采用纳米磨在防止氧化的环境下研磨金属纳米微粒。

8.根据权利要求4所述的金属热敏光学薄膜的工艺方法，其特征是：所述的分散剂是以芳香烃、皂化剂或者硅烷。

9.根据权利要求4所述的金属热敏光学薄膜的工艺方法，其特征是：所述的基体是石英玻璃或硅酸盐玻璃。

10.根据权利要求1或2所述的金属热敏光学薄膜，其制造方法是镀膜法：采用真空镀膜机，按多层膜结构从光学材料基体表面开始逐层镀膜形成金属热敏光学薄膜或者复合的金属热敏光学薄膜。