[发明专利]具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜激光二极管的制造方法无效
申请号: | 201310067247.0 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN103166114A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 钱时昌 | 申请(专利权)人: | 溧阳华晶电子材料有限公司 |
主分类号: | H01S5/327 | 分类号: | H01S5/327 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 蒋家华 |
地址: | 213300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 氮镁共 掺杂 氧化锌 薄膜 激光二极管 制造 方法 | ||
1.具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管的制造方法,该方法依次包括如下步骤:
第一步,选取蓝宝石作为衬底,将该衬底放置到具有无水乙醇的超声波振荡器中进行清洗,以去除衬底表面的油脂,然后再将其放置到具有去离子水的超声波振荡器中进行清洗,以去除残余的无水乙醇;
第二步,将所述衬底放入磁控溅射反应室中,通过射频磁控溅射工艺在所述衬底上形成300-600nm厚度的氧化镍薄膜;
第三步,将纯度为99.99%的氧化锌粉末、镁的摩尔含量为5-11%的氧化镁粉末进行混合,然后压制形成靶材;
第四步,将完成第一步工艺的衬底放入磁控溅射反应室中,向该磁控溅射反应室通入氮的摩尔含量为0.8-1.7%的NO、NO2混合气体后施加射频功率,该射频功率使得NO和NO2气体活化,并将靶材溅射沉积在衬底之上,从而在衬底上形成厚度为300-400nm的氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜;
第五步,对完成第四步的衬底进行热退火,退火气氛为氧气,退火温度为700℃,退火时间为40分钟,退火后自然冷却;
第六步,在所述衬底的下表面上和所述氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的上表面上溅射电极材料,从而分别形成底电极和顶电极。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
其中,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
3.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
可以采用多种金属材料来构成底电极和顶电极的材料,例如金、银或铜,也可以采用金属化合物材料来构成所述底电极和顶电极,例如ITO。
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