[发明专利]含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物及其制备方法与应用

权利要求书

1.含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物，其特征在于，其结构式为式(П)或式(Ш)：

式(П)                   式(Ш)。

2.含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)惰性气氛保护下，称取甲酰基取代的三苯胺和2,4-二甲基吡咯并溶于干燥的溶剂中，加入催化剂，室温避光反应6~10小时，得到紫红色溶液；

所述的甲酰基取代的三苯胺为双(4-甲酰苯基)苯胺或者三-(4-甲酰苯基)胺；

(2)称取氧化剂并溶于干燥的溶剂中，加入到步骤(1)得到的紫红色溶液中，室温反应20~40分钟，得到黑色溶液；

(3)向黑色溶液中加入有机胺和三氟化硼络合物，反应3~8小时，得到含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物；

所述的三氟化硼络合物为三氟化硼甲醚络合物、三氟化硼乙醚络合物或者三氟化硼丁醚络合物。

3.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的甲酰基取代的三苯胺按以化学计量比反应所需用量称取，所述的2,4-二甲基吡咯按以化学计量比反应所需用量的1~1.2倍称取。

4.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的溶剂为二氯甲烷或氯仿。

5.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的催化剂为三氟乙酸或丙酸。

6.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的氧化剂为四氯苯醌或二氯二氰基苯醌。

7.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的氧化剂按以化学计量比反应所需用量的1-1.2倍称取。

8.根据权利要求2所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的制备方法，其特征在于，所述的有机胺为三乙胺、三异丙基胺或者二异丙基乙胺。

9.含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物作为激光染料的应用，所述的含有三苯胺结构的强荧光氟硼二吡咯化合物的结构式为式(I)，式(П)或式(Ш)：

式(I)

式(П)                      式(Ш)。