[发明专利]一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统有效

专利信息
申请号: 201310065831.2 申请日: 2013-03-04
公开(公告)号: CN103176280A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 孙广尉;孙红胜;王加朋;张玉国;任小婉;魏建强;宋春晖 申请(专利权)人: 北京振兴计量测试研究所
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30;G02B27/09;G02B27/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 真空 紫外 光谱 参数 校准 光学系统
【权利要求书】:

1.一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,

包括壳体,复数个准直透镜或复数个会聚透镜;

复数个准直透镜或所述复数个会聚透镜安装于所述壳体中,当进行探测器真空紫外相对光谱响应率校准时,所述复数个准直透镜中的特定准直透镜将110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源变为平行光发送给所述探测器;当进行光源真空紫外光谱辐照度校准时,所述复数个会聚透镜中的特定会聚透镜将经过漫射器的110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源会聚输出至标准探测器,其中经过特定漫射器对特定波段的紫外光源进行均光。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,所述复数个准直透镜包括3个准直透镜,其中:

第一准直透镜,两个表面半径依次R∞,-213.28mm,厚度为6±0.1mm,两表面通光口径均为φ64mm,光学材料为氟化锂晶体,将110nm至130nm波段范围的紫外光源变为平行光;第二准直透镜,两个表面半径依次为R∞,-192.25mm,厚度为6±0.1mm,两表面通光口径均为φ64mm,光学材料为氟化钙晶体,将130nm至200nm波段范围的紫外光源变为平行光;第三准直透镜,两个表面半径依次为R∞,-168.31mm,厚度为6±0.1mm,两表面通光口径均为φ64mm,光学材料为氟化钙晶体,将200nm至400nm波段范围的紫外光源变为平行光。

3.根据权利要求1所述的一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,所述复数个会聚透镜包括4个会聚透镜,其中:

第一会聚透镜,两个表面半径依次为281.5mm,-138.6mm,厚度为16±0.1mm,两表面通光口径均为φ94mm,光学材料为氟化锂晶体,将经过漫射器的110nm至130nm波段的紫外光源会聚输出;第二会聚透镜,两个表面半径依次为234mm,-144.6mm,厚度为17±0.1mm,两表面通光口径均为φ94mm,光学材料为氟化钙晶体,将经过漫射器的130nm至150nm波段的紫外光源会聚输出;第三会聚透镜,两个表面半径依次为206.2mm,-133.7mm,厚度为18±0.1mm,两表面通光口径均为φ94mm,光学材料为氟化钙晶体,将经过漫射器的150nm至200nm波段的紫外光源会聚输出;第四会聚透镜,两个表面半径依次为180mm,125.7mm,厚度为19±0.1mm,两表面通光口径均为φ94mm,光学材料为氟化钙晶体,将经过漫射器的200nm至400nm波段的紫外光源会聚输出。

4.根据权利要求3所述的一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,对于点光源的紫外光源,所述漫射器为3个,所述3个漫射器中的第一漫射器对应于110nm~130nm波段范围的紫外光源,材料为氟化锂单晶,其凸面的曲率半径为81.56mm,整体厚度为4±0.1mm,通光口径为26mm,焦距数为9;

第二漫射器对应于130nm~200nm波段范围的紫外光源,材料为氟化钙单晶,其凸面的曲率半径为77.35mm,整体厚度为4±0.1mm,通光口径为26mm,F数为9;

第三漫射器对应于200nm~400nm波段范围的紫外光源,材料为氟化钙单晶,其凸面的曲率半径为168.31mm,整体厚度为6±0.1mm,通光口径为64mm,F数为9。

5.根据权利要求3所述的一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,对于面光源的紫外光源,所述漫射器为3个,所述3个漫射器中的第一漫射器为对应于110nm~130nm波段范围紫外光源的毛玻璃;

第二漫射器为对应于130nm~200nm波段范围紫外光源的毛玻璃;

第三漫射器为对应于200nm~400nm波段范围紫外光源的毛玻璃。

6.根据权利要求1所述的一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其特征在于,所述壳体为铝合金材质。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京振兴计量测试研究所,未经北京振兴计量测试研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310065831.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top