[发明专利]抛光液分散助剂、含有该分散助剂的抛光液及制备方法和应用

说明书

技术领域

[0001] 本发明涉及表面抛光，尤其是一种抛光液分散助剂，同时包括含有该分散助剂的抛光液混合物及其制备方法和应用。

[0002]  

背景技术

[0003]    随着加工物件对表面粗糙程度要求的提高，表面抛光技术得到普遍的发展，现表面抛光已从最开始的机械抛光、化学抛光发展到现在的电化学抛光，抛光液也得到快速发展，但现大部分领域应用的都为水性抛光液，油性抛光液的报道少有出现。目前针对部分领域必须采用油性抛光，所使用的抛光液必须为无水的膏剂。

[0004]    抛光行业所使用的纳米抛光粉是一种无机功能材料，由于抛光粉粒径小、比表面积和表面能都很大（特别是纳米氧化铝颗粒），在分散介质中容易团聚，形成大的聚集体，团聚的存在降低颗粒的分散均匀性和增加粒径尺寸，造成在使用过程中被抛光物更容易产生刮痕。

[0005]    目前所采用的对抛光粉进行有机表面处理可以改善在有机体系中的相容性和分散性，但另一方面抛光膏剂的分散必须得采用较复杂的碾磨、球磨等方式进行处理，分散设备费用高，但制作完成的抛光膏剂由于粒子之间的团聚作用，短期内均会发生分层现象，抛光膏剂的使用寿命短。

[0006]    根据上述情况，有必要发明一种可增加纳米抛光粉与有机溶剂相容性、分散均匀性的分散助剂，该助剂可降低被抛光表面的刮伤比率，提高抛光膏剂保存周期，同时可将抛光膏剂制作过程简单化。

发明内容

[0008]本发明的目的是提供一种抛光液分散助剂、含有该抛光液分散助剂的抛光液混合物及其制备方法和应用。该分散助剂可用于油性抛光液混合物，该混合抛光液可用于树脂表面抛光，特别适用于树脂镜片和角膜接触镜表面抛光处理。

[0009]本发明涉及一种抛光液分散助剂，该分散助剂为以下式1表示的化合物。

[0010] 【式1】

本发明同时提出一种抛光液混合物，抛光液混合物中包括10~25重量份的无机抛光粉、60~85重量份的有机溶剂，1~20重量份如式1所述的抛光液分散助剂。优选的为含有5~10重量份如式1所述的抛光液分散助剂。

[0011]    上述无机抛光粉可采用现有的抛光粉颗粒，如：氧化物、氮化物、碳化物、硼化物的金属化合物，其包括氧化铝颗粒、二氧化硅、氧化锆或氧化铈颗粒等，优选的抛光粉颗粒为粒径(D₅₀)为1~3um、晶粒圆滑、结构松散的α型氧化铝颗粒。氧化铝的粒径分布会影响抛光表面的刮伤效果，粒径分布越宽，刮伤越严重，氧化铝颗粒在使用前可以采用诸如钛酸酯偶联剂表面处理，可通过已知的方法对氧化铝进行粒度细分，例如已披露的中国专利文献号CN 101831244 A，也可直接选择市售高精度抛光氧化铝粉。

[0012] 纳米抛光粉可采用现有的纳米抛光粉，通过常用的预先进行处理，以增强在有机溶剂中的分散稳定性，优选的为直接与有机溶剂、分散助剂混合使用。

[0013] 上述有机溶剂可采用现有的常用有机溶剂，例如甲醇、乙醇、N-甲基吡咯烷酮、白油、石脑油、硅油、异链烷烃等，优选的为硅油。

[0014] 本发明抛光液混合物也可加入适量的添加剂，如非离子型分散稳定剂、抗静电剂、净洗剂等。

[0015] 本发明进一步提供一种含抛光液分散助剂的抛光液制备方法，是将上述重量份配比的无机抛光粉、有机溶剂、抛光液分散助剂加入高速搅拌机中搅拌2~5小时制得抛光液，所选择的高速搅拌机的搅拌桨叶为中间带孔的上下翻齿型分散盘。其特点是，相比现有制作方法使用的球磨机、自转公转机、三辊机等制作设备，本发明所选择的制作设备简单，制作时间短，费用低的特点。

[0016]     本发明还提出含抛光液分散助剂的抛光液应用，可将混合抛光液用于树脂表面抛光，尤其适用于树脂镜片和角膜接触镜表面抛光处理。任何已知的抛光设备均可应用于此领域，抛光液优选配合抛光布使用，优选的抛光布为无纺布。

[0017]     本发明的抛光液分散助剂具有极低的粘度、高铺展性、良好的增溶性，通过提供该抛光液分散助剂可以有效提高抛光液保存周期和降低被抛光物表面刮伤比率及表面粗糙度，同时保持长期有效的抛光效果，尤其是本发明抛光液混合物可采用机械搅拌的方式制得，操作简便，实用性强。

具体实施方式

[0018] 以下实施例对本发明做进一步的描述，其中选用的物料均以重量份表示。

[0019] 实施例一（现有技术，作为对比实施例）