[发明专利]曝光装置及曝光方法、图案膜的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其是通过隔着掩模对光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光装置，其特征在于，具备：

金属制的支撑辊，其具有对表面上形成有光反应性膜的可挠性料片的背面进行支撑的周面，并以10m/分钟以上的速度来输送所述被支撑的可挠性料片，并且所述支撑辊的直径为300mm～800mm的范围内；

组合角接触球轴承，其设置于所述支撑辊的旋转轴的两端，并吸收由于施加于所述支撑辊的旋转轴上的径向负载和两方向的轴向负载所产生的负荷；

光源，其朝着形成在所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，以100mJ/cm²以下的曝光量对所述光反应性膜照射引起光反应的光；

掩模，其以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有使来自所述光源的光通过的狭缝，所述狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述光源照射的所述光是紫外线。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述光掩模板具有矩形的板和掩蔽膜，所述板对所述光是透明的并且不具有反应性，所述掩蔽膜由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的至少任一个面上。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述板由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述金属是铬。

7.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。

8.一种曝光方法，其是通过隔着掩模对形成在可挠性料片上的光反应性膜照射光而使所述光反应性膜曝光的曝光方法，其特征在于，具有下述工序：

输送工序，在该工序中，由直径为300mm～800mm的范围内的金属制的支撑辊从背面来支撑表面上形成有光反应性膜的可挠性料片，同时以10m/分钟以上的速度来连续输送；

照射工序，在该工序中，朝着所述被支撑的所述可挠性料片上的所述光反应性膜，由光源以100mJ/cm²以下的曝光量对所述光反应性膜照射引起光反应的光；

所述掩模以接近所述支撑辊的状态配置于所述光源和所述支撑辊之间，并具有多条狭缝，所述多条狭缝在所述可挠性料片的输送方向上延伸，并在所述可挠性料片的宽度方向上以一定间距排列有多条。

9.根据权利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述支撑辊的表面温度为15～30℃的范围内。

10.根据权利要求8或9所述的曝光方法，其特征在于，所述光是紫外线，所述光反应性膜含有具有与紫外线反应的性质的化合物。

11.根据权利要求8或9所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模具有矩形的板和掩蔽膜，所述板对所述光是透明的并且不具有反应性，所述掩蔽膜由对所述光是不透明并且不具有反应性的材料来形成于所述板的至少任一个面上。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述板由无臭氧石英玻璃、合成石英玻璃、天然石英玻璃中的任一种材料构成。

13.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是由金属形成的。

14.根据权利要求13所述的曝光方法，其特征在于，所述金属是铬。

15.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩蔽膜是使用真空蒸镀、电子束蒸镀、离子束蒸镀、等离子体蒸镀、溅射中的任一种方法来形成的。