[发明专利]一种采用高碱度精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法

权利要求书

1.一种采用高碱度精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于经过下列各步骤：

（1）将硼含量为10～30ppmw的块状冶金级硅破碎至粒度为150～200目的粉末，再将高碱度精炼剂与冶金级硅粉按1:1～3:1的比例充分均匀；

（2）将步骤（1）所得混合物料通入流量为5～20L/min的氩气保护，并采用50℃/min升温到900～1100℃后，保温30min，再以15℃/min升温到1420～1550℃并保温1～3h，接着以15℃/min降温至1400～1450℃并保温30min，最后以50℃/min降温至室温，然后关闭氩气，取出样品；

（3）去除头尾杂质富集部分，即得到去除杂质硼的硅。

2.根据权利要求1所述的采用高碱度精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述步骤（1）的高碱度精炼剂是质量含量30%～50%的CaO、30%～50%的SiO₂、0～40%的K₂CO₃的混合粉末。

3.根据权利要求1所述的采用高碱度精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述步骤（3）的去除头尾杂质富集部分是将样品头尾各切去样品长度的1/10。

4.根据权利要求2所述的采用高碱度精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法，其特征在于：所述SiO₂、CaO和K₂CO₃为分析纯，其纯度为99.9%以上。