[发明专利]保管库

说明书

技术领域

本发明涉及一种保管库，例如用于保管半导体晶片、玻璃基板等被保管物。

背景技术

以往，已知一种保管库，在半导体装置、液晶显示装置等的制造工厂的洁净室中，例如用于保管半导体晶片、玻璃基板等被保管物。在这种保管库中，为了防止由于起重机在保管库内移动而产生的尘埃向保管架扩散，关于使清洁气体向保管库内流通的结构提出有各种方案(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2009-126631号公报

但是，在上述那样的保管库中，由于用于循环清洁气体的回流通道的布局等，而清洁气体的流速产生分布，结果，在清洁气体的流速较低的区域中，伴随起重机的移动而产生的尘埃有可能扩散。

发明内容

本发明是为了解决这种技术问题而进行的，其目的在于提供一种保管库，能够抑制伴随起重机的移动而产生的尘埃扩散。

本发明的保管库具备：多个保管架，设置在位于地面上方的保管区域内，保管被保管物；起重机，在保管区域中位于保管架前方的移动区域内移动，对于保管架取出放入被保管物；行驶路，沿着地面铺设在移动区域内，使起重机行驶；以及排气装置，位于比起重机和行驶路的接地面靠下方、且沿着行驶路设置在地面的上方，将清洁气体从保管区域内向保管区域外进行排气。

在该保管库中，排气装置被设置为，位于比起重机和行驶路的接地面靠下方、且沿着行驶路。因此，在清洁气体的流速分布沿着行驶路被均匀化了的状态下，清洁气体从接地面的上方朝向下方流动。由此，在接地面产生的尘埃，通过排气装置从保管区域内向保管区域外除去。因此，根据该保管库，能够抑制伴随起重机的移动而产生的尘埃扩散。

此外，也可以为，行驶路相对于地面隔着间隙部而铺设，排气装置设置在间隙部中。根据该结构，即使在起重机的底部设置有各种装置，也能够防止各种装置和排气装置之间的干涉。

此外，本发明的保管库还可以具备第一吸气装置，该第一吸气装置设置在保管区域上方，将清洁气体从保管区域外向保管区域内吸气并朝向保管区域下方吹出。根据该结构，在保管区域内，清洁气体从上侧朝向下侧良好地流动，因此能够将保管区域内的尘埃等良好地收集到排气装置中。

此外，本发明的保管库还可以具备第二吸气装置，该第二吸气装置设在保管架后方，将清洁气体从保管区域外向保管区域内吸气并朝向保管架前方吹出。根据该结构，清洁气体从保管架后方朝向前方良好地流动，因此能够良好地除去附着在保管架内的被保管物上的尘埃等。

此外，本发明的保管库还可以具备隔板，该隔板将保管区域内和保管区域外隔开。根据该结构，能够抑制保管区域内的清洁气体的流动紊乱。

发明效果

根据本发明，能够提供一种保管库，能够抑制伴随起重机的移动而产生的尘埃扩散。

附图说明

图1是表示本发明的保管库的第一实施方式的结构图。

图2是表示本发明的保管库的第二实施方式的结构图。

图3是表示本发明的保管库的第三实施方式的结构图。

符号的说明

1A、1B、1C…保管库，2A、2B…地面，6A、6B…间隔件(隔板)，7…顶棚FFU(第一吸气装置)，9…起重机，10…行驶轨道(行驶路)，11…排气用FFU(排气装置)，12…保管区域，13…移动区域，16…间隙部，18…背面FFU(第二吸气装置)，81…保管架。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的保管库的优选实施方式进行详细说明。另外，对相同或相当的要素赋予相同的符号，并省略重复的说明。

[第一实施方式]

图1是表示本发明的保管库的第一实施方式的结构图。如图1所示，保管库1A例如设置在洁净室100中，用于保管半导体晶片、玻璃基板等被保管物R。被保管物R例如以收容在盒等中的状态被保管。在洁净室100中，在设置有保管库1A的地面2A的下方，设置有空间、即地板下区域3。地面2A成为设置有多个开口21的所谓网格式地板，地面2A上方的区域和地板下区域3通过开口21连通。

在洁净室100的外侧，设置有朝向上方延伸的回流通道4。在此，回流通道4相对于洁净室100设置在单侧，并沿着与水平方向大致平行的规定方向X(与纸面垂直方向)配置有多个。另外，回流通道4也可以相对于洁净室100设置在两侧。在回流通道4的中途设置有风扇F。风扇F吸引下侧(地面侧)的空气而向上侧(保管库1A的上方侧)进行排气。