[发明专利]用于衬底处理室的处理配件和靶材有效
申请号: | 201310053011.1 | 申请日: | 2006-10-31 |
公开(公告)号: | CN103147049A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 凯瑟琳·沙伊贝尔;迈克尔·艾伦·弗拉尼根;良土芽吾一;阿道夫·米勒·艾伦;克里斯托弗·帕夫洛夫 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;H01J37/34 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 衬底 处理 配件 | ||
1.一种在衬底处理室中用于在衬底支架周围保持沉积环的固定组件,所述沉积环包括具有固定柱的外围凹槽,并且所述固定组件包括:
(a)可以与所述衬底支架连接的限制梁,所述限制梁包括两端;
(b)防升托架,所述防升托架包括:
(i)包括用于容纳限制梁一端的直通通道的部件;和
(ii)与所述部件连接的固定环,设计所述固定环的尺寸使所述固定环在所述沉积环的所述外围凹槽中的所述固定柱上部滑动,并且
其中所述直通通道适于在所述限制梁一端上滑动使得所述固定环环绕所述固定柱。
2.根据权利要求1所述的组件,其中所述限制梁包括插脚端,并且所述直通通道包括椭圆形孔,所述椭圆形孔的大小大于所述插脚端。
3.根据权利要求1所述的组件,还包括位于所述防升托架和所述限制梁之间的陶瓷隔离器。
4.一种在衬底处理室中可以围绕与衬底支架相对的溅射靶材的溅射表面的整体护板,所述护板可以减少沉积在所述支架和所述室侧壁上的溅射沉积物,所述护板包括:
(a)具有围绕所述溅射靶材的溅射表面和所述衬底支架的直径尺寸的圆柱形外部带,所述外部带具有顶端和底端,所述顶端具有与所述溅射靶材相邻沿径向向外的锥形表面;
(b)从所述外部带底端向内径向延伸的底板;以及
(c)与所述底板接合的圆柱形内部带,所述内部带至少部分围绕所述衬底支架的外围边缘。
5.根据权利要求4所述的护板,包括以下特征中的至少一个:
(i)所述外部带、底板和内部带包括整体结构;和
(ii)所述内部带的高度低于所述外部带的高度。
6.一种用于在衬底处理室中冷却圆柱形护板的热交换器,所述热交换器包括:
(a)一板,所述板包括内周,所述内周包括设计尺寸适于围绕圆柱形护板的圆孔;以及
(b)位于所述板中的多边形导管,在所述导管中流过热交换液体,所述多边形导管包括以多边形图案形状围绕所述圆孔互连的多个分支,并且所述多边形导管包括入口和出口。
7.根据权利要求6所述的热交换器,其中所述板包括包含六边形边的外周。
8.根据权利要求7所述的热交换器,其中所述分支在锐角处钻透所述六边形边,所述锐角为约20°到约45°。
9.一种在衬底处理室中可以固定在护板内并位于隔离器上的溅射靶材,所述溅射靶材包括:
(a)由要溅射到所述衬底上的溅射材料构成的溅射板,所述溅射板包括倾斜边缘;
(b)用于支撑所述溅射板的背板,所述背板包括超出所述溅射板的倾斜边缘延伸的外围突出部分,所述外围突出部分包括在所述室中位于所述隔离器上的底脚,以及内部凸起,设计所述内部凸起的形状和尺寸以减少沉积在所述隔离器和护板上的溅射沉积物。
10.根据权利要求9所述的靶材,其中所述凸起包括高度为约1.5mm到约2mm的曲线截面。
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