[发明专利]3 端子电子器件和2 端子电子器件无效

专利信息
申请号: 201310052976.9 申请日: 2010-09-03
公开(公告)号: CN103178090A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 小林俊之 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/16;H01L29/786;H01L29/778;G01N27/414
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 端子 电子器件
【说明书】:

本申请是分案申请,其原案申请的申请号为201010277945.X,申请日为2010年9月3日,发明名称为“3端子电子器件和2端子电子器件”。

技术领域

本发明涉及一种构成薄膜晶体管等的3端子电子器件以及一种构成化学物质传感器等的2端子电子器件。

背景技术

在薄膜晶体管(TFT)中,考虑如下技术,即,将由石墨烯(grapheme)或还原石墨烯氧化物(reduced grapheme oxide,RGO)制成的纳米片充足地设置在衬底上,从而形成沟道形成区域(例如,参见Nano Letters7,3499(2007),Nature Nanotechnology3,270(2008)和Advanced Materials20,3440(2008))。此外,可以从例如Applied Physics Letters94,083111(2009)中获知使用由石墨烯或RGO制成的纳米片的气体传感器。RGO是通过化学还原通过氧化石墨获得的氧化石墨烯片而获得的纳米片。由于RGO包括各种形成sp3键的官能团,所以尽管RGO的传导率比石墨烯低,但是RGO的优势在于RGO可以高浓度地溶解在各种溶剂中。

发明内容

顺便提及,在纳米片中,纳米片之间的电阻大于纳米片内部的电阻。因此,当TFT沟道形成区域由纳米片构成时,并且当TFT沟道长度约等于纳米片的平均尺寸时,沟道形成区域在纳米片间具有显著改变的电阻值,这引起了特性(例如,载流子迁移率)的变化。此外,传感器还在设置在两个电极之间的纳米片间具有显著改变的电阻值,这引起传感器特性的变化。

考虑到上述问题,期望提供具有较小特性变化的3端子电子器件和2端子电子器件。

根据本发明的第一实施方式,提供了一种3端子电子器件,包括:(A)控制电极;(B)第一电极和第二电极;以及(C)有源层,设置在第一电极和第二电极之间,并被设置为经由绝缘层与控制电极相对。

有源层包括纳米片的集合体。

当假设纳米片具有平均尺寸LS且第一电极和第二电极之间具有间隔D时,满足LS/D≥10。

根据本发明的第二实施方式,提供了一种3端子电子器件,包括:(A)控制电极;(B)第一电极和第二电极;以及(C)有源层,设置在第一电极和第二电极之间,并被设置为经由绝缘层与控制电极相对。

有源层包括纳米片的集合体。

当假设纳米片具有平均尺寸LS,第一电极和第二电之间具有间隔D,并且第一电极和第二电极均具有长度LE时,满足D×LE≥3×102×LS2

根据本发明的第三实施方式,提供了一种2端子电子器件,包括:(A)第一电极和第二电极;以及(B)有源层,设置在第一电极和第二电极之间。

有源层包括纳米片的集合体。

当假设纳米片具有平均尺寸LS且第一电极和第二电极之间具有间隔D时,满足LS/D≥10。

根据本发明的第四实施方式,提供了一种2端子电子器件,包括:(A)第一电极和第二电极;以及(B)有源层,设置在第一电极和第二电极之间。

有源层包括纳米片的集合体。

当假设纳米片具有平均尺寸LS,第一电极和第二电极之间具有间隔D,并且第一电极和第二电极均具有长度LE时,满足D×LE≥3×102×LS2

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