[发明专利]照明光学装置、曝光装置及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201310052720.8 申请日: 2008-10-10
公开(公告)号: CN103149806A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 广田弘之 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 照明 光学 装置 曝光 元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种照明光学装置,借由从光源供应的照明光照射被照射面,且与将配置于该被照射面的光罩的图案转印至涂有感光性材料的基板上的曝光装置组合使用,其特征在于,具备:

空间光调变构件,由具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状所构成;

复眼透镜,具有配置于该光路、二维排列的透镜组件;以及

中继光学系,配置于该复眼透镜与该空间光调变构件之间;

来自该光源的光经过该复眼透镜、该中继光学系及该空间光调变构件到达照明对象物体。

2.如权利要求1所述的照明光学装置,其特征在于,其中,该复眼透镜使来自该复眼透镜的光束再成像于该空间光调变构件。

3.如权利要求1所述的照明光学装置,其特征在于,其中,该复眼透镜为再成像光学系统。

4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的照明光学装置,其特征在于,其中,经过该复眼透镜的来自该光源的光射入该中继光学系;

经过该中继光学系的来自该复眼透镜的光射入该空间光调变构件。

5.如权利要求2或3所述的照明光学装置,其特征在于,其中,该空间光调变构件具备配置在第1位置的第1空间光调变构件、与配置在与该第1位置不同的第2位置的第2空间光调变构件;

该第1及第2位置,隔着从该光源输出的光的该光路的轴。

6.如权利要求5所述的照明光学装置,其特征在于,其进一步具备分布形成光学系,将经过该空间光调变构件的光加以聚光,以在该照明光学装置的照明光瞳形成既定光强度分布。

7.如权利要求6所述的照明光学装置,其特征在于,其中,该分布形成光学系,可将经过该第1空间光调变构件的光束的至少一部分、与经过该第2空间光调变构件的光束的至少一部分,在该照明光瞳加以重叠。

8.如权利要求1至3中任一权利要求所述的照明光学装置,其特征在于,其中,各该反射光学元件,为使该反射角相对入射于各反射面的光的轴的倾斜角变化而可动。

9.如权利要求1至3中任一权利要求所述的照明光学装置,其特征在于,其中,该照明光学装置与将光罩的图案转印至涂有感光性材料的基板上的曝光装置组合使用,可在该被照射面配置该图案。

10.一种曝光装置,其特征在于其具备:

权利要求1至9中任一权利要求所述的照明光学装置;

保持机构,用以保持形成有既定图案所构成的被照射物体;以及

投影光学装置,用以将从该光源输出的光透过该照明光学装置照射该被照射物体而形成的图案像,投影至涂有感光性材料的基板上。

11.一种元件的制造方法,其特征在于其包含:

曝光步骤,使用权利要求10所述的曝光装置,将该既定图案曝光至该基板;

显影步骤,在该曝光步骤后将该基板加以显影,以在该基板表面形成对应该既定图案的形状的掩模层;以及

加工步骤,是在该显影步骤后透过该掩模层加工该基板表面。

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