[发明专利]具有高亲水性的硅酮印模材料

权利要求书

1.一种具有高亲水性的硅酮印模材料，其特征在于，包括：

成分(1)1分子内具有至少2个不饱和基的有机聚硅氧烷类、

成分(2)1分子内具有至少2个SiH基的有机氢聚硅氧烷类、

成分(3)填充材料、以及

成分(4)铂催化剂，

作为亲水化材料，含有：

成分(a)山梨糖醇酐脂肪酸酯系表面活性剂、以及

成分(b)含有聚醚改性硅酮的非离子系表面活性剂。

2.如权利要求1所述的具有高亲水性的硅酮印模材料，其中，

相对于硅酮印模材料整体，

所述成分(1)1分子内具有至少2个不饱和基的有机聚硅氧烷类的含量为20～70重量％，

所述成分(2)1分子内具有至少2个SiH基的有机氢聚硅氧烷类的含量为3～15重量％，

所述成分(3)填充材料的含量为20～70重量％，

所述成分(4)铂催化剂的含量为0.01～0.5重量％，

所述成分(a)山梨糖醇酐脂肪酸酯系表面活性剂的含量为0.25～6重量％，

所述成分(b)含有聚醚改性硅酮的非离子系表面活性剂的含量为0.25～15重量％。

3.如权利要求1或者2所述的具有高亲水性的硅酮印模材料，其中，

所述成分(a)山梨糖醇酐脂肪酸酯系表面活性剂的HLB为6.0～10.0。

4.如权利要求1或者2所述的具有高亲水性的硅酮印模材料，其中，

所述成分(b)含有聚醚改性硅酮的非离子性表面活性剂是用通式[1]表示的化合物，

【化1】

式中，各R₁表示任意被取代的烷基或者芳基，各自可以彼此相同，也可以不同，n是1以上的整数；在n＝1的情况下，R₂是包含含醚键的主链且具有烷氧基的取代基，在n≥2的情况下，R₂表示任意被取代的烷基、芳基或者包含含醚键的主链且具有烷氧基的取代基；其中，在n≥2的情况下，R₂的至少1个以上是包含含醚键的主链且具有烷氧基的取代基，n≥2时的单体单元中的R₁以及R₂的组合，可以在每个单体单元都相同，也可以在每个单体单元都不同。

5.如权利要求1或者2所述的具有高亲水性的硅酮印模材料，其中，所述成分(b)聚醚改性硅酮的HLB为5.0～18.0。

6.如权利要求1或者2所述的具有高亲水性的硅酮印模材料，其中，

所述成分(a)山梨糖醇酐脂肪酸酯系表面活性剂的含量、和所述成分(b)含有聚醚改性硅酮的非离子系表面活性剂的含量之比为1∶1～1∶2的范围。