[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

权利要求书

1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和设置在玻璃基板表面上的低辐射薄膜，所述低辐射薄膜包括至少两个介质层和至少一个红外反射层，每个红外反射层位于两个介质层之间，其特征在于：在所述玻璃基板表面和所述低辐射薄膜之间增设高折射率层和低折射率层，所述高折射率层、低折射率层和低辐射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下顺序向外依次设置：高折射率层、低折射率层和低辐射薄膜；其中，所述高折射率层的折射率大于1.7，其厚度为40～150nm；所述低折射率层的折射率小于1.7，其厚度为40～150nm；所述高折射率层与所述低折射率层的折射率差不小于0.3。

2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述高折射率层的折射率为1.9～2.7，所述低折射率层的折射率为1.4～1.6。

3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层。

4.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述高折射率层选自Zn、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Hf等金属及其合金的氧化物中至少一种，或者选自Si、Al、Ti、Zr、Hf、Nb等金属及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一种。

5.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低折射率层选自SiO₂、Al₂O₃、SiAlOx和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：还包括保护层，所述保护层作为最外层而设置在最远离玻璃基板的红外反射层上方的介质层之上，其中所述保护层的厚度为0.5～50nm。

7. 根据权利要求1-6任意一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射薄膜包括两个介质层和一个红外反射层，所述介质层、红外反射层、高折射率层和低折射率层在所述玻璃基板表面按照以下顺序向外依次设置：高折射率层、低折射率层、下介质层、第一红外反射层和上介质层；其中，下介质层的厚度为20～60nm，第一红外反射层的厚度为7～20nm，上介质层的厚度为20～50nm。

8.根据权利要求7所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质层选自Zn、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Hf等金属及其合金的氧化物中至少一种，或者选自Si、Al、Ti、Zr、Hf、Nb等金属及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一种。

9.根据权利要求7所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述下介质层与所述第一红外反射层之间和/或在所述第一红外反射层与所述上介质层之间设置阻隔层，所述阻隔层的厚度为0.5～10nm，所述阻隔层选自Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一种。

10. 根据权利要求1-6任意一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射薄膜包括三个介质层和两个红外反射层，所述介质层、红外反射层、高折射率层和低折射率层在所述玻璃基板表面按照以下顺序向外依次设置：高折射率层、低折射率层、下介质层、第一红外反射层、中间介质层、第二红外反射层和上介质层；其中，下介质层的厚度为20～60nm，第一红外反射层和第二红外反射层的厚度均为7～20nm，中间介质层的厚度为40～90nm，上介质层的厚度为15～50nm。

11.根据权利要求10所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述介质层选自Zn、Sn、Ti、Zr、Nb、Ta、Hf等金属及其合金的氧化物中至少一种，或者选自Si、Al、Ti、Zr、Hf、Nb等金属及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一种。

12.根据权利要求10所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在所述下介质层与所述第一红外反射层之间和/或在所述第一红外反射层与所述中间介质层之间设置第一阻隔层，所述第一阻隔层的厚度为0.5～10nm，所述第一阻隔层选自Ti、Ni、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金属及其合金的金属、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一种。