[发明专利]对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置及方法

权利要求书

1.一种对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：该装置包括

真空腔体（5），放置于真空腔体（5）内的洁净材料（9）、与洁净材料（9）相距一定距离的移动平台（4）；

移动平台（4）与洁净材料（9）相对的一面设有用于传输激光的光纤探头（1）、用于材料表面观察的光学显微探头（2）、气体吹扫头（3）；

放置在真空腔体（5）外部的真空机组（6）和激光光源（7），其中，真空机组（6）用于对真空腔体（5）抽真空，激光光源（7）发出的激光通过光纤（8）传输到光纤探头（1）；

移动平台（4）用于在洁净材料（9）表面移动光纤探头（1）、光学显微探头（2）、气体吹扫头（3）以发现附在洁净材料（9）上的待清除污染物（10），并使光纤探头（1）对准污染物(10)，启动激光光源（7）使激光通过光纤（8）传输到光纤探头（1）使污染物（10）在激光作用下挥发、蒸发；吹扫头（3）中通入吹扫气体（11），对激光作用区域进行吹扫，使蒸发、挥发的污染物吹离污染区域，并在气流作用下被真空机组抽出真空腔体。

2.根据权利要求1所述的对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：吹扫头（3）吹出的吹扫气体（11）是无机气体、有机易挥发气体或它们的混合物。

3.根据权利要求2所述的对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：无机气体包括惰性气体、氢气、氮气；有机易挥发气体是酒精、丙酮。

4.根据权利要求2所述的对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：吹扫气体（11）是氢气、酒精等易燃易爆气体时，在真空机组（6）的排气口设有防爆装置。

5.根据权利要求1所述的对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：激光光源（7），包括气体激光器、固体激光器、半导体激光器、染料激光器中的任一种，在其发出的激光通过光纤后作用在洁净材料表面时，使沉积在这些表面上的污染物（10）从表面释放出来。

6.根据权利要求1所述的对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：激光光源（7）发出的激光通过光纤后作用在洁净材料表面时，使沉积在这些表面上的污染物（10）从表面释放出来，并发生电离，与吹扫气体（11）发生反应产生形成新的气体成分被真空机组（6）抽出真空腔体（5）。

7.一种对洁净材料表面局部污染物进行清理的装置，其特征在于：安装在移动平台（4）上的光纤探头（1）、光学显微探头（2）、气体吹扫头（3）放在真空腔体（5）内部待清理洁净材料表面附近，用真空机组（6）对真空腔体（5）进行抽气到工作压强；采用移动平台（4）在洁净材料表面移动光纤探头（1）、光学显微探头（2）、气体吹扫头（3），并用光学显微探头（2）发现洁净材料表面的局部污染物后，将光纤探头（1）对准要清除的污染物（10），启动激光光源（7）的同时，在吹扫头（3）中吹出吹扫气体（11），激光光源（7）工作时发出的激光通过光纤传输到需要局部清理的材料表面，使污染物（10）蒸发、挥发、电离，并在吹扫气体（11）的作用下被吹离洁净材料（9）表面，并被真空机组抽出真空腔体（5）。