[发明专利]轮廓准直器和自适应过滤器以及对应的方法

权利要求书

1.一种用于调节X射线辐射(12)的光程的轮廓(10)的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：该轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)具有

-X射线辐射(12)不可穿透的磁性流体(9)，和

-若干可切换的磁体元件(6)，通过所述磁体元件(6)能在所述磁性流体(9)内构成一个形成所述轮廓(10)的孔径(11)，方式是通过所述磁体元件(6)的磁场(H)吸引所述磁性流体(9)。

2.根据权利要求1所述的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述磁性流体(9)是铁磁流体。

3.根据权利要求1或2所述的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)具有带有所述磁性流体(9)的第一层(4)。

4.根据权利要求1至3中一项所述的轮廓准直器(10)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)具有至少一个其内设有所述磁体元件(6)的第二层(5)。

5.根据权利要求4所述的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)具有在所述第二层(5)内由印制电路(7)形成的电栅格结构(8)，在所述电栅格结构(8)的交叉点上设有所述磁体元件(6)。

6.根据前述权利要求中一项所述的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述磁体元件(6)包括电流可通过的线圈。

7.根据前述权利要求中一项所述的轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：所述轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)具有根据待形成的轮廓(10)接通和断开所述磁体元件(6)的电控单元(14)。

8.根据权利要求4至7中任一项所述轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)，其特征在于：多个第一层(4)和第二层(5)相堆叠。

9.一种用于以轮廓准直器(1)或自适应过滤器(2)调节X射线辐射(12)的光程的轮廓(10)的方法，其特征在于：通过磁场(H)在X射线辐射(12)不可穿透的磁性流体(9)内构成一个形成所述轮廓(10)的孔径(11)，方式是通过所述磁场(H)吸引所述磁性流体且从所述孔径(11)的区域内移出。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述磁场(H)通过若干可切换的磁体元件(6)形成。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于：所述磁场(H)通过电流形成。