[发明专利]用于校准激光投影系统的仪器和方法

权利要求书

1.一种用于校准激光投影系统(180、228)的仪器，所述仪器包含：

结构框架组件(201、301)，其沿着三个相互正交轴(170)延伸；

多个不可动反射靶(108、238)，其设置在所述结构框架组件(201、301)上；

至少三个定位台(112)，其分别关于所述三个相互正交轴(170)的每个耦合到所述结构框架组件(201、301)；和

至少一个可动反射靶(114)，其设置在每个定位台(112)上，

其中所述不可动反射靶(108、238)和所述至少一个可动反射靶(114)每个都被配置成反射来自激光投影系统(180、228)的激光束。

2.根据权利要求1所述的仪器，进一步包含设置在所述结构框架组件(201、301)上的至少一个不可动非反射靶(108)。

3.根据权利要求1或者2所述的仪器，进一步地包含耦合到所述结构框架组件(201、301)的一个或多于一个安装元件。

4.根据权利要求1-3的任何一项所述的仪器，其中所述结构框架组件(201、301)包含二维校准壁(100)和在所述二维校准壁(100)后面延伸的三维结构组件(202、302)。

5.根据权利要求1-3的任何一项所述的仪器，其中所述结构框架组件(201、301)包含二维校准壁(100)和在所述二维校准壁(100)前面延伸的三维结构组件(202、302)。

6.根据权利要求1-5的任何一项所述的仪器，其中所述至少三个定位台(112)的每个都是双轴定位台(112a)或者三轴定位台(112b)的一个；并且其中所述激光投影系统(180、228)包含将由所述仪器校准的三维激光投影器仪器(234)。

7.一种用于校准激光投影系统(180、228)的方法，所述方法包含：

将来自激光投影系统(180、228)的多个激光束投影到关于参考系统的三个相互正交轴(170)定位的相应数目的至少三个反射靶，其中每个反射靶到另一个反射靶的接近度限定具有预定公差的激光投影校准系统(229)；

将来自所述多个激光束的一个或多于一个第一激光束的每个集中到所述至少三个反射靶中包括的相应的不可动反射靶(108)上；

移动所述至少三个反射靶中包括的一个或多于一个可动反射靶(108)，以便来自所述多个激光束的一个或多于一个第二激光束的每个都集中到可动反射靶(114)上；

获得一个或多于一个测量，这些测量指示所述一个或多于一个的可动反射靶(114)的每个与相应原始位置的偏差；和，

比较至少一个偏差和相应的预定公差，以便校准所述激光投影系统(180、228)。

8.根据权利要求7所述的方法，进一步包含提供一个或多于一个不可动非反射靶(108)，从而验证到所述一个或多于一个不可动非反射靶(108)上的三维投影能力。

9.根据权利要求7或者8的任何一项所述的方法，进一步包含确定如果所述偏差在所述相应预定公差内则所述激光投影系统(180、228)可使用，和确定如果至少一个偏差在一个或多于一个相应预定公差之外则所述激光投影系统(180、228)不可使用。

10.根据权利要求7-9的任何一项所述的方法，其中移动所述一个或多于一个可动反射靶(108)包括沿着第一轴并沿着垂直于所述第一轴的第二轴横向移动每个可动反射靶(114)，或者沿着第三轴横向移动每个可动反射靶(114)，所述第三轴垂直于所述第一轴并垂直于所述第二轴；其中所述不可动反射靶(108、238)建立参考系，并且提供所述激光投影系统(180、228)的对齐，并且所述可动反射靶(114)确定所述激光投影系统(180、228)的投影精确度测量。