[发明专利]一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法

权利要求书

1.一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，其步骤包括：1）将含铜、锌、锡三种金属阳离子的盐和络合物溶解于水中；2）使用三电极法将阴极、阳极分别与导电衬底、惰性阳极连接，同时将参比电极置于溶液中且不与阴阳极连通；3）打开电源，采用固定电位共沉积铜、锌、锡三种金属；4）取出沉积的前驱体将其干燥；5）将前驱体通过热处理得到铜锌锡硫薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤1中铜、锌、锡三种金属阳离子浓度范围为10mM～1M。

3.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤1中的络合物为柠檬酸盐、酒石酸、酒石酸盐、焦磷酸盐中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤1中的络合物浓度范围为0mol/L～5mol/L。

5.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤2的导电衬底为不锈钢、ITO或镀有导电层的绝缘材料中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤2的惰性阳极为铂或者石墨。

7.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤4中的干燥方法为烘干、吹干或自然干燥。

8.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤5中的热处理过程中采用的气体是氦气、氩气、氮气、硫气、硫化氢中的一种或几种。

9.根据权利要求1所述的一种铜锌锡硫薄膜的共电沉积制备方法，其特征是，步骤5中的热处理时间范围为1分钟～24小时。