[发明专利]卫生洗净装置

说明书

技术领域

本发明的形态通常涉及一种冲厕装置。

背景技术

用洗净水洗净大便器或小便器的盆面之后，当残留在盆面的残水蒸发而盆面干燥时，会存在水垢附着在盆面上的情况。当水垢附着在盆面上时，盆面则会脏污。而且，由于水垢牢固地附着在盆面上，所以除掉水垢比较困难。因此，需要抑制水垢生成的技术或者即使在水垢附着在盆面的情况下也能够容易地除去该水垢的技术。并且，硅酸成分的水垢比钙成分、镁成分等的水垢更牢固地粘着在便器的瓷釉层表面。因此，人们渴望能够容易地除去硅酸成分的水垢的技术。

这里存在一种预先将成为水垢成分的钙离子或镁离子等除去的卫生洗净装置（专利文献1）。但是，专利文献1记载的卫生洗净装置存在装置规模变大的问题。

另外还存在一种杀菌性上水供给式洗净用住宅设备机器（专利文献2），其生成具有pH为4～6的氢离子浓度的杀菌性上水，并将杀菌性上水向被洗净物体供给。另外，还存在一种水洗式大便器（专利文献3），在执行洗净操作并经过规定时间后向盆部吐出功能水。但是，在专利文献2及专利文献3中没有关于硅酸成分的水垢的记载，在抑制水垢生成方面或者在容易地除去水垢方面还有改善的余地。

专利文献1：日本国特开2004-270185号公报

专利文献2：日本国特开平7-136660号公报

专利文献3：日本国特开2004-92278号公报

发明内容

本发明是基于这样的课题认识而进行的，目的在于提供一种可抑制水垢生成或者可以容易地除去水垢的冲厕装置。

第1个发明是一种冲厕装置，其特征在于，具备：洗净单元，洗净便器的盆的表面；供水单元，向所述洗净单元供给洗净水；硅酸成分聚合抑制单元，向残留在所述盆的表面的洗净水中添加硅酸成分聚合抑制剂，抑制在所述盆的洗净后残留在所述盆表面的洗净水中的硅酸成分聚合；及控制部，执行以下控制，在所述盆的表面干燥之前开始所述硅酸成分聚合抑制单元的动作。

牢固地附着在盆表面的水垢是通过残留在盆表面的残水中的硅酸成分聚合而形成的。根据本发明，在盆的表面干燥之前，能够向残留在盆表面的洗净水中添加硅酸成分聚合抑制剂。由此，能够抑制硅酸成分聚合，能够抑制水垢生成。而且，由此，通过简单的清扫便能够剥离（除去）水垢。

另外，第2个发明的冲厕装置的特征在于，在第1个发明中，所述硅酸成分聚合抑制剂为酸性水。

根据此冲厕装置，能够抑制残水中的硅酸成分的聚合反应进行。即，在硅酸不聚合的状态下，当残水蒸发而盆表面干燥时，在中性区域则产生咖啡环现象。在该过程中会进行硅酸的聚合反应。另一方面，在酸性区域不产生咖啡环现象。于是，形成溶剂向中央方向流动且硅酸不聚合的状态。由此，能够抑制残水中的硅酸成分的聚合反应进行，能够抑制水垢生成。而且，能够容易地除去所生成的水垢。

另外，第3个发明的冲厕装置的特征在于，在第2个发明中，所述酸性水含有金属离子。

根据此冲厕装置，当金属离子被添加在酸性水中后，则在所生成的水垢中存在于硅酸（SiO₂）分子之间。而且，当因洗净等而供给水时，金属离子则被析出。于是使硅酸凝聚物更加脆化，从而可容易地除去水垢。

另外，第4个发明的冲厕装置的特征在于，在第2或第3个发明中，所述酸性水的酸性度为pH2.5～5.0。

根据此冲厕装置，由于酸性水的酸性度为pH2.5～5.0，所以通过电解水的电解槽可以生成酸性水。因此，不需要进行例如药剂补充等维护。而且，酸性度为pH2.5～5.0的酸性水可以将残留在盆表面的残水的酸性度调整为例如约pH2.5～5.0左右。

另外，第5个发明的冲厕装置的特征在于，在第1至第4的任意一项发明中，在所述盆的表面形成有光触媒层。

根据此冲厕装置，由于在盆的表面形成有光触媒层，所以当向盆表面照射紫外线时，光触媒被激发从而发生氧化还原反应。其结果，能够得到分解杂菌、细菌、臭味物质等有机物的分解作用以及使表面容易被水润湿的亲水作用。由于形成有光触媒层的盆可抑制污物附着或可分解污物，并且可以容易地除去附着的水垢，所以能够减轻清扫便器的负担，可保持干净的便器。而且，由于通过向残留在盆表面的洗净水中添加硅酸成分聚合抑制剂能够容易地除去水垢，所以能够抑制出现紫外线照射不到水垢下的光触媒层的情况。由此，能够抑制光触媒的活性降低。

根据本发明的形态，提供一种可抑制水垢生成或者可以容易地除去水垢的冲厕装置。

附图说明