[发明专利]一种P型异质结太阳电池及其制作方法有效
| 申请号: | 201310038428.0 | 申请日: | 2013-01-31 |
| 公开(公告)号: | CN103094423A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
| 发明(设计)人: | 陈剑辉;李锋;沈燕龙;赵文超;李高非;胡志岩;熊景峰;宋登元 | 申请(专利权)人: | 英利集团有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/20;H01L31/0747 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
| 地址: | 071051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 型异质结 太阳电池 及其 制作方法 | ||
1.一种P型异质结太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:
a、提供一定向凝固法制备的P型硅片;
b、对所述P型硅片进行表面除杂清洗,去除其表面杂质;
c、对表面除杂清洗后的P型硅片的进行制绒和清洗;
d、在所述P型硅片上形成正面结构和背面结构;
其中,所述正面结构包括:位于所述P型硅片上表面的第一本征非晶硅层;位于所述第一本征非晶硅层上表面的N型非晶硅层;位于所述N型非晶硅层上表面的第一透明导电薄膜;所述背面结构包括:位于所述P型硅片下表面的第二本征非晶硅层;位于所述第二本征非晶硅层下表面的P型非晶硅层;位于所述P型非晶硅层下表面的第二透明导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在b和c之间还包括:
对表面除杂清洗后的P型硅片进行吸杂,去除其内部杂质。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对所述P型硅片进行表面除杂清洗包括:
对所述P型硅片进行第一次清洗,将所述P型硅片放入第一清洗试剂进行清洗,所述第一清洗剂中氨水、双氧水和水的体积比为1:(1~2):(5~7);
对所述P型硅片进行第二次清洗,将所述P型硅片放入KOH溶液中进行清洗,所述KOH溶液的浓度为1%~40%;
对所述P型硅片进行第三次清洗,将所述P型硅片放入HF溶液中进行清洗,所述HF溶液的浓度为1%~15%;
对所述P型硅片进行水洗后进行干燥处理。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述对表面除杂清洗后的P型硅片进行吸杂为对所述P型硅片进行磷吸杂。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述对所述P型硅片进行磷吸杂包括:
将所述P型硅片放入扩散炉进行磷吸杂,扩散试剂为三氯氧磷。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述对表面除杂清洗后的P型硅片进行制绒和清洗包括:
将所述P型硅片放入碱性溶液中进行制绒;
制绒后,将所述P型硅片放入第二清洗试剂进行清洗,所述第二清洗试剂中盐酸、双氧水和水的体积比为1:(1~2):(6~8);
再将所述P型硅片放入HF溶液中进行清洗,所述HF溶液的浓度为1%~15%;
对所述P型硅片进行水洗后进行干燥处理。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在所述P型硅片上形成正面结构和背面结构包括:
在所述P型硅片上形成第一本征非晶硅层以及第二本征非晶硅层,所述第一本征非晶硅位于所述P型硅片的上表面,所述第二本征非晶硅层位于所述P型硅片的下表面;
在所述第一本征非晶硅层上表面形成N型非晶硅层;
在所述第二本征非晶硅层下表面形成P型非晶硅层;
形成第一透明导电薄膜以及第二透明导电薄膜,所述第一透明导电薄膜位于所述N型非晶硅层上表面,所述第二透明导电薄膜位于所述P型非晶硅层下表面;
其中,所述第一本征非晶硅层、N型非晶硅层以及第一透明导电薄膜构成所述正面结构;所述第二本征非晶硅层、P型非晶硅层以及第二透明导电薄膜构成所述背面结构。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,还包括:
在所述第一透明导电薄膜表面形成正面栅线,在所述第二透明导电薄膜表面形成背面栅线;
通过烧结使所述正面栅线与所述第一透明导电薄膜形成欧姆接触,使所述背面栅线与所述第二透明导电薄膜形成欧姆接触。
9.一种P型异质结太阳能电池,其特征在于,包括:
定向凝固法制备的P型硅片;
位于所述P型硅片上表面的正面结构;
位于所述P型硅片下表面的背面结构;
其中,所述正面结构包括:位于所述P型硅片上表面的第一本征非晶硅层;位于所述第一本征非晶硅层上表面的N型非晶硅层;位于所述N型非晶硅层上表面的第一透明导电薄膜;所述背面结构包括:位于所述P型硅片下表面的第二本征非晶硅层;位于所述第二本征非晶硅层下表面的P型非晶硅层;位于所述P型非晶硅层下表面的第二透明导电薄膜。
10.根据权利要求9所述的P型异质结太阳能电池,其特征在于,还包括:
位于所述第一透明导电薄膜上表面的正面栅线;
位于所述第二透明导电薄膜下表面的背面栅线;
其中,所述正面栅线与所述第一透明导电薄膜欧姆接触,所述背面栅线与所述第二透明导电薄膜欧姆接触。
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