[发明专利]一种有机纯物质中痕量杂质分析装置及分析方法

权利要求书

1.一种有机纯物质中痕量杂质分析装置，其特征在于：

所述装置包括：液相色谱仪、切割阀、基于等离子体的电离源和质谱仪，所述基于等离子体的电离源包括雾化器和电晕放电针；

液相色谱仪依次连接切割阀、雾化器、电晕放电针和质谱仪。

2.一种采用如权利要求1所述的有机纯物质中痕量杂质分析装置的分析方法，其特征在于所述方法包括：

样品送入液相色谱仪，依次通过切割阀、基于等离子体的电离源，样品中的杂质被离子化，送入质谱仪分析。

3.如权利要求2所述的有机纯物质中痕量杂质分析方法，其特征在于所述方法包括：

1）样品进入液相色谱仪，对有机纯物质中的主成分和杂质进行有效分离；

2）通过切割阀将有机纯物质中的主成分切除，杂质进入基于等离子体的电离源；

3）杂质在基于等离子体的电离源中经雾化器被气化，与电晕放电针产生的等离子体相互作用后被离子化，然后送入质谱仪进行分析。