[发明专利]X射线荧光分析的α系数测定方法有效
申请号: | 201310036201.2 | 申请日: | 2013-01-30 |
公开(公告)号: | CN103969273A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 马振珠;刘玉兵;戴平;诸葛顺金;赵鹰立;闫冉;韩蔚 | 申请(专利权)人: | 中国建材检验认证集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 荧光 分析 系数 测定 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种X射线荧光分析技术,特别是涉及一种X射线荧光分析的α系数测定方法。
背景技术
目前,X射线荧光分析时所采用的α系数一般为理论α系数,或通过线性回归实验测定的经验校正系数,经验校正系数并没有明确的物理含义。具有明确物理意义的α系数实验测定仅局限于二元系统,主要用于与理论α系数的比较,一般不会应用于实际XRF分析工作中。理论α系数由于在计算过程中涉及的参数自身存在误差,从而校正效果受到一定限制。
发明内容
本发明的主要目的在于,提供一种X射线荧光分析的α系数测定方法,使其获得能够应用于X射线荧光分析中的α系数。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种X射线荧光分析的α系数测定方法,其特征在于,包括:选取标准样品S,该标准样品中至少含有成份P与成份Q;向(1-yp)质量份的标准样品S中加入yp质量份的成份P的纯基准化学物质,制备n个P系列标准样品,n大于等于3,将上述P系列标准样品制备成玻璃熔片后,分别进行X射线荧光强度测量;得到各P系列标准样品中成份P的射线荧光强度,分别为Ipp1、Ipp2、…、Ippn,所述各P系列标准样品中:加入的成份P的质量份为ypp1、ypp2、…、yppn,成份P的质量分数为Cpp1、Cpp2、…、Cppn;
令,
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