[发明专利]射频低噪声放大器无效

专利信息
申请号: 201310029868.X 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103095223A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 鲁华祥;景一欧;边昳 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H03F1/26 分类号: H03F1/26;H03F3/189
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射频 低噪声放大器
【权利要求书】:

1.一种射频低噪声放大器,其特征在于,包括:差分共栅电路和差分交叉耦合共栅电路,其中:

差分共栅电路为主放大器,包括:第一MOS管和第二MOS管,其中:第一MOS管为NMOS管,其源端连接射频信号输入正端;其漏端连接至射频信号输出正端,并通过第一电阻连接至电压源正端;其栅端通过第五电阻连接至偏置电压第1端;第二MOS管为NMOS管,其源端连接射频信号输入负端;其漏端连接至射频信号输出负端,并通过第二电阻连接至电压源正端;其栅端通过第六电阻连接至偏置电压第1端;

差分交叉耦合共栅电路,为增加主放大器跨导的辅助放大器,包括:第三MOS管、第四MOS管、第一电容和第二电容,其中:第三MOS管为PMOS管,其源端连接至射频信号输入正端,其漏端通过第三电阻连接至电压源负端,其栅端通过第七电阻连接至偏置电压第2端,并通过第一电容连接至第四MOS管的源端;第四MOS管是PMOS管,其源端连接至射频信号输入负端,其漏端通过第四电阻连接至电压源负端,其栅端通过第八电阻连接至偏置电压第2端,并通过第二电容连接至第三MOS管的源端。

2.根据权利要求1所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述第一MOS管、第二MOS管、第三MOS管和第四MOS管为MOSFET型晶体管或BJT型晶体管。

3.根据权利要求2所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述第一MOS管、第二MOS管、第三晶体管和第四晶体管M4的宽长比分别为6.4/0.18,6.4/0.18,12/0.18,12/0.18。

4.根据权利要求1所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述第一电容、第二电容、第三电容和第四电容为MIM电容、PIP电容或者MOM电容。

5.根据权利要求4所述的射频低噪声放大器,其特征在于,第一电容、第二电容、第三电容和第四电容的电容值均为1.3pF。

6.根据权利要求1所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述第一电阻、第二电阻、第三电阻、第四电阻、第五电阻、第六电阻、第七电阻、第八电阻为多晶硅电阻。

7.根据权利要求6所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述第一电阻、第二电阻、第三电阻、第四电阻、第五电阻、第六电阻、第七电阻和第八电阻的电阻值分别为1200ohm、1200ohm、450ohm、450ohm、15000ohm、15000ohm、15000ohm、15000ohm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的射频低噪声放大器,其特征在于,所述偏置电压第1端和第2端的输入电压分别为1.2V,0.2V,所述电压源电压为1.8V。

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