[发明专利]具有多个试剂池的测定装置

权利要求书

1.一种测定装置，包括：

液体样品区；

在所述样品区下游并与所述样品区流体连通的试剂区，所述试剂区包括至少两个含有试剂材料并被布置在所述试剂区中的试剂池，使得每个试剂池经历来自所述样品区的样品的基本上相同的流动条件，其中所述试剂池将来自所述样品区的样品流分成多个流动流；

设置在所述试剂区下游的一个或多个流动控制元件，所述流动控制元件将所述多个流动流合并成更少的流动流；

与所述试剂区流体连通的检测区；和

与所述检测区流体连通的芯吸区，所述芯吸区具有接收从所述检测区流出的液体样品的能力，其中所述液体样品区、所述检测区和所述芯吸区限定流体流动路径。

2.根据权利要求1所述的测定装置，其中所述至少两个试剂池对称地布置在所述试剂区中。

3.根据权利要求1所述的测定装置，其中所述流动控制元件被布置成使得多个流动流和更少的流动流中的每一个受到相同的流动阻力。

4.根据权利要求1所述的测定装置，其中所述检测区具有基质和突出物，所述突出物从所述基质基本上竖直地伸出，其中所述突出物具有限定所述突出物之间的毛细管间隙的高度、横截面以及彼此间距，所述毛细管间隙能够产生与基质表面平行的毛细管流。

5.根据权利要求1所述的测定装置，其中所述试剂材料包括标记的试剂材料，并且所述检测区具有与其结合的捕获元件。

6.根据权利要求1所述的测定装置，其中所述至少两个试剂池包括三个或更多个试剂池。

7.一种测定装置，包括：

液体样品添加区；

在所述样品添加区下游并与所述样品添加区流体连通的试剂区，所述试剂区包括2ⁿ个布置在所述试剂区中的试剂池，其中n是非零、非负值的整数，使得每个试剂池经历来自所述样品添加区的样品的基本上相同的流动条件，其中所述试剂池将来自所述样品添加区的样品流分成多个流动流；

分隔所述试剂池的流动控制元件；

设置在所述试剂区下游的一个或多个流动控制元件，该设置在所述试剂区下游的一个或多个流动控制元件将所述多个流动流合并成更少的流动流；

与所述试剂区流体连通的检测区，所述检测区能够生成可检测的信号；和

与所述检测区流体连通的芯吸区，所述芯吸区具有接收从所述检测区流出的液体样品的能力，其中所述样品添加区、所述检测区和所述芯吸区限定流体流动路径。

8.根据权利要求7所述的测定装置，其中所述设置在所述试剂区下游的一个或多个流动控制元件被布置成使得多个流动流和更少的流动流中的每一个受到相同的流动阻力。

9.根据权利要求7所述的测定装置，其中所述多个流动流是(2ⁿ) × 2流动流。

10.根据权利要求7所述的测定装置，其中所述多个流动流被合并成单个流动流。

11.根据权利要求7所述的测定装置，其中设置在所述试剂区下游的一个或多个流动控制元件包括第一阶，所述第一阶将多个流动流合并成2ⁿ个流动流。

12.根据权利要求11所述的测定装置，还包括第二阶，所述第二阶接收所述2ⁿ个流动流并将它们合并成2^n-1个流动流。

13.根据权利要求7所述的测定装置，其中设置在下游的所述一个或多个流动控制元件被布置成为所述多个流动流中的每一个提供通道门，所述通道门限制所述多个流动流中的每一个的流动。

14.根据权利要求13所述的测定装置，其中所述测定装置包括基质，其中分隔所述试剂池的流动控制元件和设置在所述试剂区下游的流动控制元件包括如下结构，所述结构从所述测定装置的基质底部伸出并阻断样品的流动，并且从分隔所述试剂池的流动控制元件和设置在所述试剂区下游的流动控制的中断形成所述通道门。

15.根据权利要求14所述的测定装置，其中所述测定装置包括基质，所述基质包括用于容纳所述试剂区和所述检测区的通道，并且其中最外侧分隔所述试剂池的流动控制元件是所述通道的壁部分，所述壁部分延伸进入通道中并使所述通道变窄。