[发明专利]感光材料和光刻方法

权利要求书

1.一种感光材料，包括：

溶剂；

光生酸剂(PAG)组分；以及

猝灭剂组分，其中，所述PAG组分和所述猝灭剂组分中的至少一种包含烷基氟化物基团。

2.根据权利要求1所述的感光材料，其中，所述猝灭剂组分包含烷基氟化物基团。

3.根据权利要求1所述的感光材料，其中，所述烷基氟化物基团是C₂F₅。

4.根据权利要求1所述的感光材料，其中，所述PAG组分包含烷基氟化物基团。

5.根据权利要求4所述的感光材料，其中，所述烷基氟化物基团连接到所述PAG组分的阴离子组分或者连接到所述PAG组分的阳离子组分。

6.一种在衬底上形成图案的方法，包括：

提供半导体衬底；

在所述半导体衬底上形成感光层，其中所述感光层包括具有氟原子的第一组分；

在形成所述感光层后，使所述第一组分浮动到所述感光层的顶面；以及

此后，图案化所述感光层。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一组分包括光生酸剂(PAG)或猝灭剂。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一组分包括光产碱剂(PBG)和光分解猝灭剂(PDQ)中的至少一种。

9.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一组分具有下式：

其中，R1^-、R2、R3和R4中的至少一种包含氟原子；或者

其中，R1^-、R2、R3和R4中的至少一种包含烷基氟化物基团中的氟原子。

10.一种制造半导体器件的方法，包括：

确定与形成第一部件相关的轮廓问题；

确定感光材料配方从而补偿所述轮廓问题；

在衬底上形成具有确定的感光材料配方的感光材料层；以及

图案化所述感光材料层从而提供所述第一部件。