[发明专利]膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置

说明书

技术领域

本发明涉及检测形成于基板上的涂布膜的膜厚不匀的检测装置和方法，以及在基板上刚形成涂布膜完后检测该涂布膜的膜厚不匀的涂布装置和涂布方法。

背景技术

液晶显示器或者等离子显示器等平板显示器上，为了在由玻璃等构成的基板上形成彩色覆膜或者透明膜，使用涂布了涂布液的基板（称之为涂布基板）。该涂布基板是通过将涂布液均匀地涂布的涂布装置形成。即，该涂布装置包括用于放置基板的平台和排出涂布液的涂布单元，通过边从涂布单元的管头部排出涂布液边使基板和涂布单元相对移动，由此在基板上形成规定厚度的涂布液膜（涂布膜）。

对于通过这样的涂布装置所形成的涂布基板进行膜厚不匀检测，以确认涂布膜上是否包含筋状或者粒状等的膜厚不匀。具体而言，在于基板上形成涂布膜的涂布工序之后紧接着，且在通过干燥工序使涂布膜干燥以进行薄膜化之前的状态下，检测膜厚不匀（例如，专利文献1）。

在用于检测该膜厚度的装置中，使用相对于基板上形成的涂布膜上输出特定照射图案的光的照射部，并接收从涂布膜的表面反射的反射光，对所接收的反射光的接收图案和特定的照射图案进行比较，由此判断涂布膜的形成状态是否良好（例如，专利文献2）。

图10为现有的膜厚不匀检测装置中被摄像的图像形象图，是接收从不存在膜厚不匀的基板反射的光的图案的图。也就是，从照射部照射的黑白条纹形状以明部43a和暗部43b的形式被摄像。

图11为现有的膜厚不匀检测装置中被摄像的图像形象图，是接收从存在膜厚不匀（纵筋）的基板反射的光的图案的图。因此，不存在膜厚不匀的部分如图10所示以明部43a和暗部43b的形式被摄像。另外，存在膜厚不匀的部分43s以条纹形状变形的状态其明部43a和暗部43b被摄像。

图12为在现有的膜厚不匀检测装置中，进行偏差提取处理后的形象图，对不存在膜厚不匀时的图像和存在膜厚不匀时的图像进行比较，并仅将存在差异的部分作为“偏差提取像素43z”提取的图。由这些偏差提取像素构成的图像形象是，为了便于说明，将黑白图案的境界用虚线表示，并表示有偏差提取像素43z在所接收光的图案的什么位置上以何种程度大小存在。

在现有的膜厚度检测装置中，针对用于提取偏差提取像素43z的各条件，作为检测参数设定了适当值，并判断所提取的各偏差提取像素43z的大小是否比预先设定的基准值大，由此检测是否存在膜厚不匀。并且，平板显示器被迅速推进低价格化而对成本下降的要求强烈，另一方面，对高精度或颜色再现性能的要求也越来越高，因此对膜厚不匀检测的要求也越来越严格。因此，包含膜厚不匀超过基准值的涂布基板，不仅在涂布后的干燥工序之后（所谓的涂布干燥后）进行检测，而且在刚涂布之后且干燥工序之前进行膜厚不匀检测。另外，刚涂布后的基板在刚涂布后的膜厚不匀检测中被判断是否作为优良品进行下一干燥工序，如果判断为不良品，则在干燥前进行排除而采取修复处理措施。

专利文献

专利文献1  特开2005-337857号公报

专利文献2  特开2010-234237号公报

发明内容

在过去的刚涂布完后的检测中，针对作为检测对象的基板，判断所述的条纹图案的明部43a和暗部43b的境界附近显现的偏差提取像素的各个面积大小，如果存在大面积的偏差提取像素，则判断此基板为不良品。另外，即使面积小的偏差提取像素以一群组方式存在，只要每一个像素面积小，则在偏差提取过程中作为不关注（噪音）成分来对待，只要不存在大面积的偏差提取像素，则并不将作为检测对象的基板判断为不良品。

但是，这样以一群组方式存在的小面积的偏差，有时会有只伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段起因的情况，因此在涂布干燥后的严格检测中，作为竖筋或横段来被检测出。因此，即使在刚涂布完的检测中，也要求针对因纵筋或横段所导致的微小膜厚不匀发挥与干燥后的严格检测相同程度的检测精度（即，保持一致性）。

因此，本发明的目的在于提供一种膜厚不匀检测装置以及包括该膜厚不匀检测装置的涂布装置，在该检测装置中，即使对只伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段也能够在刚涂布完之后可靠地进行检测，能够保持与涂布干燥后的严格检测的一致性。