[发明专利]用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备无效

专利信息
申请号: 201310023430.0 申请日: 2004-09-08
公开(公告)号: CN103181754A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 尹锡贤;布雷特·尤金·鲍马;吉列尔莫·J·蒂尔尼;约翰内斯·菲茨杰拉德·德·布尔 申请(专利权)人: 通用医疗公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00;G02B27/48
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 朱胜;郑宗玉
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 使用 干涉 测量 进行 光学 成像 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种设备,包括:

至少一个第一装置,其将至少一个第一电磁辐射提供给样品并且将至少一个第二电磁辐射提供给参考,其中所述第一和第二电磁辐射的至少一个具有随时间变化的谱,所述谱包含多个不同的纵模;以及

至少一个第二装置,其检测关联于所述至少一个第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述至少一个第二辐射的至少一个第四辐射之间的干涉。

2.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第三辐射是从所述样品返回的辐射,并且所述至少一个第四辐射是从所述参考返回的辐射。

3.根据权利要求1的设备,进一步包括至少一个第三装置,其用于移位所述至少一个第一电磁辐射、所述至少一个第二电磁辐射、所述至少一个第三电磁辐射和所述至少一个第四电磁辐射中的至少一个的频率。

4.根据权利要求1的设备,进一步包括至少一个第三装置,其基于所检测的干涉生成图像。

5.根据权利要求1的设备,进一步包括探头,其扫描所述样品的横向位置以生成扫描数据,并且其将所述扫描数据提供给所述第三装置以便生成所述图像。

6.根据权利要求5的设备,其中所述扫描数据包括在所述样品上的多个横向位置获得的所检测的干涉。

7.根据权利要求1的设备,其中所述参考是非反射的。

8.根据权利要求1的设备,其中所述谱的中值基本上线性地随时间变化。

9.根据权利要求8的设备,其中所述谱的中值的变化速率是至少1000nm/msec。

10.根据权利要求1的设备,其中所述谱以至少10kHz的重复速率重复地随时间变化。

11.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第一装置包括用以随时间改变所述谱的谱滤波器。

12.根据权利要求11的设备,其中所述谱滤波器包括随时间改变所述谱的多面体扫描器和谱分离装置。

13.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第一装置包括半导体增益介质,用于至少生成和放大电磁辐射之一。

14.根据权利要求3的设备,其中至少一个第二装置包括至少一个光电检测器和跟随着所述至少一个光电检测器的至少一个电滤波器。

15.根据权利要求14的设备,其中所述至少一个电滤波器是带通滤波器,其具有与通过所述频移装置的频移的量值大约相同的中心频率。

16.根据权利要求15的设备,其中所述电滤波器的传输特性基本上在其通带上变化。

17.根据权利要求5的设备,其中所述探头包括旋转接合和光纤导管。

18.根据权利要求17的设备,其中所述导管以高于每秒30转的速度旋转。

19.根据权利要求1的设备,进一步包括至少一个偏振调制器。

20.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第二装置能够检测所述第一和第二电磁辐射中的至少一个的偏振态。

21.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第二装置包括至少一个双平衡接收器。

22.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第二装置包括至少一个偏振分集接收器。

23.根据权利要求1的设备,其中所述至少一个第二装置包括至少一个偏振分集和双平衡接收器。

24.根据权利要求1的设备,进一步包括至少一个第三装置,用于跟踪至少下列之一之间的相位差:

·所述至少一个第一电磁辐射与所述至少一个第二电磁辐射,以及

·所述至少一个第三电磁辐射与所述至少一个第四电磁辐射。

25.一种方法,包括下列步骤:

将至少一个第一电磁辐射提供给样品并且将至少一个第二电磁辐射提供给参考,其中所述第一和第二辐射中的至少一个具有随时间变化的谱,所述谱包含多个不同的纵模;以及

检测关联于所述至少一个第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述至少一个第二辐射的至少一个第四辐射之间的干涉。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用医疗公司,未经通用医疗公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310023430.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top