[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，其在真空容器内进行多次按顺序供给互相反应的多种处理气体的循环而形成薄膜，其中，

该成膜装置包括：

旋转台，其设于上述真空容器内，在该旋转台的上表面上形成有用于载置基板的基板载置区域，并且，该旋转台用于使该基板载置区域公转；

多个处理气体供给部，其用于向在该旋转台的周向上彼此分开的处理区域分别供给互不相同的处理气体；

分离气体供给部，其为了使各处理区域的气氛分离开而向形成于各处理区域之间的分离区域供给分离气体；以及

排气口，其用于对上述真空容器内的气氛气体进行真空排气，

上述处理气体供给部中的至少一个处理气体供给部构成为气体喷嘴，该气体喷嘴从上述旋转台的中央部朝向周缘部延伸，并且该气体喷嘴的用于朝向上述旋转台喷射处理气体的气体喷射口沿着该处理气体供给部的长度方向形成，

在上述气体喷嘴的靠上述旋转台的旋转方向的上游侧和靠下游侧，沿着该气体喷嘴的长度方向设有整流板，该整流板为了抑制自该气体喷嘴喷射的处理气体的稀薄化而使分离气体在该整流板的上表面侧流动，

在上述气体喷嘴和上述整流板的上方侧形成有供分离气体流通的流通空间，

为了抑制位于上述整流板的下方侧的处理气体被排出到旋转台的外侧，上述整流板的靠旋转台的外周侧的缘部以与该旋转台的外周端面隔有间隙地与该旋转台的外周端面相对的方式朝向下方侧弯曲而构成弯曲部。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述弯曲部经由上述旋转台的外周端面弯曲到该旋转台的下表面侧。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

在上述气体喷嘴和位于该气体喷嘴的靠上述旋转台的旋转方向下游侧的处理气体供给部之间形成有排气口，该排气口为了将自上述气体喷嘴供给到上述真空容器内的处理气体排出而形成在上述旋转台和上述真空容器的内壁面之间，

该排气口设置于在俯视时比上述气体喷嘴的上述整流板的靠上述旋转台的旋转方向下游侧的端面靠上述旋转台的旋转方向下游侧的位置。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

在上述气体喷嘴和上述真空容器的顶面之间设有箱形状的罩体，该箱形状的罩体为了沿着该气体喷嘴的长度方向覆盖该气体喷嘴，该箱形状的罩体的下表面侧开口并容纳上述气体喷嘴，

该罩体的开口缘的靠上述旋转台的旋转方向上游侧的部位和靠下游侧的部位分别连接于上述整流板的上表面。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其中，

该成膜装置包括分离气体供给通路，该分离气体供给通路用于向上述真空容器的俯视时的中心部区域供给分离气体，

为了抑制自该分离气体供给通路供给的分离气体流到上述气体喷嘴的下方侧，上述罩体的靠上述中心部区域侧的下表面侧开口缘形成为其高度位置与上述整流板的下表面齐平。

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述整流板以在俯视时从上述旋转台的中心部侧朝向外周部侧去而扩展的方式形成，

对于上述整流板的靠上述旋转台的外周侧的部位和上述弯曲部，这两者的在上述旋转台的旋转方向上的长度尺寸彼此一致。

7.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述气体喷嘴以该气体喷嘴的下端面和上述旋转台的上表面之间的分开尺寸在上述旋转台的旋转方向上一致的方式形成，以使自该气体喷嘴喷射的处理气体沿着基板流通。

8.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述罩体的内壁面和上述气体喷嘴的外壁面之间的分开尺寸、上述整流板和上述旋转台之间的分开尺寸以及上述旋转台的外周端面和上述弯曲部之间的间隙尺寸分别设定为0.5mm～3mm。

9.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

上述气体喷射口在上述旋转台的中心部侧的开口面积大于在上述旋转台的外周部侧的开口面积。