[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜的硒化处理装置、方法及铜铟镓硒薄膜器件有效

专利信息
申请号: 201310018690.9 申请日: 2013-01-17
公开(公告)号: CN103088301A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 王文忠;王志;段东平 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/06;H01L31/032
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜铟镓硒 薄膜 处理 装置 方法 器件
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池制备领域,具体地说,涉及一种铜铟镓硒薄膜的硒化处理装置、方法及铜铟镓硒薄膜器件。

背景技术

铜铟镓硒(简称CIGS)薄膜太阳能电池材料属于I-III-VI族半导体材料,通过调整CIGS四种元素的配比,以Ga代替CIGS材料中的部分In,形成CuIn1-xGaxSe2结构,能隙可以在1.04~1.68eV之间连续可调,为制备Ga组分调控的铜铟镓硒薄膜叠层电池提供了重要的理论依据,电池组件的光电转换效率可以达到20.3%。用于制备高光电转化效率CIGS薄膜太阳能电池的主要方法包括:共蒸发法、金属合金预制层硒化法和电沉积法,其中后两种方法容易制备大面积CIGS器件,但通过金属合金预制层硒化法和电沉积法制备的CIGS薄膜一般结晶性较差,晶粒数量多、尺寸小,需要热处理来提高结晶度、改善表面形貌和增大晶粒尺寸,热处理一般包括:真空退火、惰性气体退火和硒气氛退火三种方法,其中硒气氛退火对于调整CIGS薄膜晶体的元素比例、增大晶体尺寸及增加CuIn1-xGaxSe2结构的含量,效果显著,被科研单位和生产企业广泛采用。

刘云等在双温区管式炉中,将硒源和CIGS基片分别放置于石英管的两个温区,在真空条件下进行硒化处理,硒源区域控温在180~210℃,CIGS基片区域控制温度在400~550℃,硒化处理后,经磁控溅射制备的金属预制层晶粒明显增大,表面结构平滑,但作者采用真空条件硒化,硒蒸气压力不够稳定,此外硒源和CIGS基片没有封闭,硒蒸气会挥发到整个石英管,并在低温区凝固,硒化工艺不稳定,CIGS薄膜容易出现针孔。

蒋方丹采用真空蒸发的方法进行CIGS预制层的硒化,由于使用卤钨灯和电热丝分别加热硒源和CIGS基片,硒源和CIGS基片距离较近,硒源和CIGS基片的温度控制不准确,硒化工艺过程不够稳定,而且这种方法难以同时硒化处理多个CIGS基片。

Mirasano在管式加热炉中硒化处理CIGS器件,作者采用封闭式硒化单元,在一定惰性气体压力下高温硒化处理CIGS器件,在整个硒化单元内硒蒸气比较均匀,但作者使用单温区管式炉,硒源和CIGS器件的温度相同,难以调整CIGS薄膜中各金属元素的比例,对CIGS薄膜成分的优化效果不够理想。

因此,目前制备CIGS薄膜器件的方法中,存在硒化工艺不稳定,薄膜容易出现针孔、难以同时硒化处理多个CIGS基片,不能批量处理等问题。

发明内容

本发明的目的在于针对现有问题的不足,提出了一种铜铟镓硒薄膜的硒化处理装置、方法及铜铟镓硒薄膜器件。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

本发明的目的之一在于提供一种铜铟镓硒薄膜的硒化处理装置,所述装置包括石英管,所述石英管内部设有硒化单元,所述硒化单元包括通过隔热材料相连接的硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,两凹槽上方设有防护罩,所述防护罩与两凹槽之间形成密闭空间。

本发明所述的硒化单元中分开设置硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,两凹槽通过隔热材料连接,从而使硒源和CIGS薄膜在硒化处理时分开放置,可以分别控制硒源和CIGS薄膜的温度,利于调整CIGS薄膜中各金属元素的比例,对CIGS薄膜成分的优化效果更加理想。本发明通过防护罩使硒化单元内部形成密闭空间,使硒蒸气仅充满硒化单元内部,而避免挥发到整个石英管,硒化工艺更加稳定,CIGS薄膜不会出现针孔。

本发明所述防护罩采用隔热材料制成。优选地,所述隔热材料采用多孔陶瓷和/或多孔玻璃。

本发明所述硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽采用良导热材料制成。本领域技术人员可以从现有技术中获知所述的良导热材料。所述良导热材料优选采用石墨、钼或不锈钢中的一种或至少两种的组合。采用良导热材料制备硒源凹槽和CIGS薄膜凹槽,能够使两凹槽内的传热效率更高,利用温度的精确控制。

本发明所述石英管两端设有密封装置。优选地,所述密封装置选用硅橡胶或氟橡胶垫圈进行密封,并且石英管两端均设有阀门。

本发明所述石英管与惰性气源相连接。优选地,所述石英管一端连接真空泵,另一端连接惰性气源。优选地,所述惰性气源中惰性气体为高纯氩气或高纯氮气。本发明使用惰性气体对石英管保护,可以防止硒蒸气高温氧化。高纯气体是指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。本发明所述“高纯氩气或高纯氮气”指纯度等于或高于99.999%的氩气或氮气。

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