[发明专利]一种等离子处理装置的等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置的等离子处理方法，所述等离子处理装置包括一个反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上固定待处理基片，还包括具有不同射频频率输出的多个射频电源施加射频电场到所述反应腔内，所述多个射频电源为脉冲射频电源，所述处理方法包括：

匹配频率获取阶段和脉冲处理阶段，

所述匹配频率获取阶段包括：

第一匹配频率获取步骤：调节第一脉冲射频电源的输出为第一输出状态，第二脉冲射频电源输出为第三输出状态，使反应腔内具有第一阻抗，调节第二脉冲射频电源中的变频元件，获得第一匹配频率以匹配所述第一阻抗；

第二匹配频率获取步骤：调节所述第一脉冲射频电源的输出为第二输出状态，第二脉冲射频电源输出为第四输出状态使反应腔内具有第二阻抗，调节第二脉冲射频电源中的变频元件，获得第二匹配频率以匹配所述第二阻抗；

所述脉冲处理阶段包括：

第一处理步骤：设定所述第一脉冲射频电源输出具有第一输出状态，同时设定所述第二脉冲射频电源输出为第三输出状态且具有第一匹配频率；

第二处理步骤：设定所述第一脉冲射频电源输出具有第二功率输出状态，同时设定所述第二脉冲射频电源输出为第四输出状态且具有第二匹配频率

其特征在于所述匹配频率获取阶段中的第一或第二匹配频率获取步骤的时间小于100ms且大于脉冲处理阶段中的第一或第二处理步骤的时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述脉冲处理阶段中第一或第二处理步骤的时间小于10ms。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述第一脉冲射频电源的第一输出状态具有第一功率输出，第二输出状态具有第二功率输出，其中第一功率输出大于第二功率输出。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于其中第二功率输出为零。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述第一、二匹配频率获取脉冲步骤中，第三输出状态中的输出功率大于等于第四输出状态中的输出功率。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述第一脉冲射频电源输出频率小于第二脉冲射频电源输出频率。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于所述第一脉冲射频电源输出频率小于13MHz，第二脉冲射频电源输出频率大于13MHz。

8.一种等离子处理装置的等离子处理方法，所述等离子处理装置包括一个反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上固定待处理基片，具有不同射频频率输出的多个射频电源施加射频电场到所述反应腔内，一个控制系统控制所述多个射频电源，所述多个射频电源为脉冲射频电源，所述处理方法包括：

所述控制系统发送进入匹配频率获取阶段的信号到所述多个射频电源，在匹配频率获取阶段中第一射频电源以第一脉冲频率输出射频功率，使所述输出射频功率在第一功率和第二功率之间切换，第二射频电源以第一脉冲频率同步的调节输出频率，获得与所述第一功率和第二功率输出对应的第一和第二匹配频率；

获得第一和第二匹配频率后，所述控制系统发送进入脉冲处理阶段的信号到所述多个射频电源，在脉冲处理阶段中第一射频电源以第二脉冲频率输出射频功率，使所述输出射频功率在第一功率和第二功率之间切换，第二射频电源同步以第二脉冲频率同步的在第一和第二匹配频率间切换；

其中第一脉冲频率小于第二脉冲频率。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于所述第一脉冲射频率大于60Hz小于1000Hz，第二脉冲频率大于60Hz小于500KHz。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于所述匹配频率获取阶段中第二射频电源输出恒定的功率。