[发明专利]一种片式氧化铌电容器石墨、银浆层制备方法在审
申请号: | 201310014512.9 | 申请日: | 2013-01-15 |
公开(公告)号: | CN103065798A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 江平;王安玖 | 申请(专利权)人: | 中国振华(集团)新云电子元器件有限责任公司 |
主分类号: | H01G9/04 | 分类号: | H01G9/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 谷庆红 |
地址: | 550018 贵州省*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 电容器 石墨 银浆层 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于电容器制造领域,特别是涉及一种片式氧化铌电容器石墨、银浆层制备方法。
背景技术
氧化铌电容器是一种以一氧化铌粉作为核心材料的新型电解电容器,它不但具有钽电容器体积小、容量大、损耗角正切小、电性能稳定的优点,还具有使用电压降幅小、不燃烧特点,因此氧化铌电容器成为高速处理的低电压低功耗电子装备首选产品。
目前,石墨、银浆层作为铌电容器的阴极,铌电容器石墨、银浆层的传统制备方法如下:将被膜好的钽铌块浸入水性石墨,高温固化冷却后浸入油性石墨,最后浸入银浆。氧化铌电容器采用这种传统石墨、银浆层的制备方法的缺点是:电容器在高温125℃下容量变化大,电容器会因为环境温度过高而导致输出波形失真、电路无法正常工作。
发明内容
针对上述问题,本发明旨在提供一种片式氧化铌电容器的石墨、银浆层制备方法,利用该方法制造的氧化铌电容器在125℃下容量变化满足技术标准要求,并能够在125℃的环境下维持正常工作。
本发明采取的技术方案为:
一种片式氧化铌电容器石墨、银浆层制备方法,所述该方法包括以下步骤:
1)将被膜好的氧化铌块芯子浸入水性石墨,浸渍深度为芯子高度的3/4~4/5,浸渍时间为1~10S;
2)取出后,用电容器纸吸掉芯子底部多余的水性石墨,室温放置5~10min,再放入140~200℃烘箱内固化10~60min;
3)氧化铌块芯子取出冷却至室温,浸入苯甲醇溶液,浸渍深度为芯子总高度的3/4~4/5,浸渍时间为1~10S;
4)取出后,将浸渍过苯甲醇溶液的芯子浸入油性石墨,浸渍深度为芯子总高度的3/4~4/5,浸渍时间为1~10S;
5)缓慢取出,用电容器纸吸掉芯子底部多余的油性石墨,室温放置5~10min,再放入140~200℃烘箱内固化10~60min;
6)将上述氧化铌块芯子取出冷却至室温,浸入银浆,浸渍深度为芯子总高度的3/4~4/5,浸渍时间为1~10S;
7)取出后,用电容器纸吸掉芯子底部多余的银浆,室温放置5~10min,再放入160~230℃烘箱内固化10~60min。
作为本发明的进一步优选方案,所述步骤1)水性石墨按照体积比为原瓶石墨:去离子水=1:(2~10)配制。
作为本发明的进一步优选方案,所述步骤4)油性石墨按照体积比为原瓶石墨:苯甲醇=1:(1~5)配制。
作为本发明的进一步优选方案,所述步骤6)银浆按照体积比为原瓶银浆:乙酸丁酯=1:(2~10)配制。
本发明由于采用了在油性石墨前增加浸渍苯甲醇溶液的处理工艺,有效的抑制了片式氧化铌电容器在高温125℃容量变化,提高了氧化铌电容器在高温环境中的可靠性和稳定性。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步描述,在此发明的示意性实施例以及说明用来解释本发明,但并不作为对本发明的限定。
实施例1
1)将被膜好的氧化铌块芯子浸入体积比为原瓶石墨:去离子水=1:2的水性石墨,浸渍深度为芯子高度的3/4,浸渍时间为3S;
2)取出后,用电容器纸吸掉芯子底部多余的水性石墨,室温放置5min,再放入140℃烘箱内固化10min;
3)氧化铌块芯子取出冷却至室温,浸入苯甲醇溶液,浸渍深度为芯子总高度的3/4,浸渍时间为3S;
4)取出后,将浸渍过苯甲醇溶液的芯子浸入体积比为原瓶石墨:苯甲醇=1:2的油性石墨,浸渍深度为芯子总高度的3/4,浸渍时间为3S;
5)缓慢取出,用电容器纸吸掉芯子底部多余的油性石墨,室温放置5min,再放入140℃烘箱内固化10min;
6)将上述氧化铌块芯子取出冷却至室温,浸入体积比为原瓶银浆:乙酸丁酯=1:2的银浆,浸渍深度为芯子总高度的3/4,浸渍时间为3S;
7)取出后,用电容器纸吸掉芯子底部多余的银浆,室温放置5min,再放入160℃烘箱内固化10min。
实施例2
1)将被膜好的氧化铌块芯子浸入体积比为原瓶石墨:去离子水=1:10的水性石墨,浸渍深度为芯子高度的4/5,浸渍时间为10S;
2)取出后,用电容器纸吸掉芯子底部多余的水性石墨,室温放置10min,再放入200℃烘箱内固化60min;
3)氧化铌块芯子取出冷却至室温,浸入苯甲醇溶液,浸渍深度为芯子总高度的4/5,浸渍时间为10S;
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