[发明专利]微光刻投影光学系统

权利要求书

1.一种微光刻投影光学系统，包括：

多个元件，其被设置为将来自物平面的波长为λ的光成像到像平面，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面，

其中，所述旋转非对称表面从旋转对称参考表面偏离，所述旋转对称参考表面为最近似地拟合旋转非对称表面的旋转对称表面，距离在垂度方向上，

其中，所述光学系统在所述像平面上的场具有300mm的最小半径。

2.根据权利要求1所述的微光刻投影光学系统，其中，所述光学系统在所述像平面上的场为矩形场。

3.一种光学系统，包含：

多个元件，其被设置为使得在工作期间将来自物平面中的物场的光成像到像平面中的像场，

其中，

所述像平面不平行于所述物平面；

所述像场具有第一维度和垂直于所述第一维度的第二维度；

所述像场的第一维度大约大于等于1mm；

而所述像场的第二维度大约大于等于1mm；以及

所述光学系统为投影光学系统。

4.根据权利要求3所述的光学系统，其中，所述光学系统在所述像平面上的场为矩形场。

5.根据权利要求3所述的光学系统，其中，所述像场具有大约2mm的最小尺寸。

6.根据权利要求3所述的光学系统，其中，所述像场具有大于等于10mm的第二维度。

7.根据权利要求3所述的光学系统，其中，所述像场具有大于等于20mm的第二维度。

8.根据权利要求3所述的光学系统，具有所述像场处的小于或等于10nm的静态畸变，所述光学系统具有大于0.3的像侧数值孔径，并且在所述像场处的波前误差小于或等于λ/14，其中λ为所述光的波长。

9.根据权利要求3所述的光学系统，其中，主光线在所述物平面上彼此发散。

10.一种微光刻投影光学系统，包含：

多个元件，其被设置为在所述多个元件的工作期间将来自物平面的波长为λ的光成像，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面，

其中，通过所述光学系统的光路可用主光线表征，并且，对于所述光学系统的子午截面，中心场点的主光线在每个所述元件表面上具有入射角之间的θ度的最大值，所述光学系统具有大于或等于0.3的像侧数值孔径NA，并且比值θ/NA小于等于68，所述光学系统的子午截面为由所述物平面的法线和所述物场的中心点，以及所述光学系统的光学元件的孔径所限定的平面。

11.根据权利要求10所述的投影光学系统，其中，所述多个元件的反射元件的数量为4。

12.根据权利要求10所述的投影光学系统，其中，所述多个元件的反射元件的数量为6。

13.一种微光刻投影光学系统，包含：

多个元件，其被设置为将来自物平面的波长为λ的光成像到像平面，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称自由型表面，

其中，具有所述自由型表面的所述至少一个反射元件的参考表面关于所述光学系统的共同参考轴偏心和倾斜，

其中，具有所述自由型表面的所述至少一个反射元件在偏心方向上偏心，并且关于倾斜轴倾斜，该偏心方向垂直于所述共同参考轴，该倾斜轴与所述共同参考轴和所述偏心方向二者垂直。

14.根据权利要求13所述的投影光学系统，其中，具有所述自由型表面的所述至少一个反射元件偏心大于或等于约5mm。

15.根据权利要求13所述的投影光学系统，其中，具有所述自由型表面的所述至少一个反射元件倾斜大于或等于约1°。

16.根据权利要求13所述的投影光学系统，其中，所述多个元件的反射元件的数量为4。

17.根据权利要求13所述的投影光学系统，其中，所述多个元件的反射元件的数量为6。