[发明专利]一种陶瓷的制备方法

权利要求书

1.一种陶瓷的制备方法，其特征在于，该制备方法包括以下步骤：

步骤一，将成型的基本胚体经800℃低温烧制成素胚体，并进行人工补水修饰；

步骤二，人工补水修饰后，人工精细涂画隔离胶；

步骤三，待隔离胶干后，人工涂画釉水，并对涂画釉水后的胚体进行低温烘烤处理；

步骤四，将稠密度调节好的釉水人工喷洒在低温烘烤处理后的胚体上，入窑烧制得成品。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在该陶瓷的制备方法中，根据不同陶瓷产品及坯件大小、厚薄和釉料性能，对成型的基本胚体的施釉分成浸釉、浇釉、刷釉、喷釉四道工序。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，对成型的基本胚体浸釉时，需将釉浆倒入大木桶搅拌均匀，手持陶坯，在釉浆中滚动，蘸上釉浆。

4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，对成型的基本胚体浇釉时，胚体的凹处首先擦上水，然后把釉浆舀入坯体内，用手将坯体左右上下旋转，使坯体内膛壁均匀吸附釉浆，最后将多余釉浆倒出。

5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，对成型的基本胚体刷釉时，用毛刷或毛笔蘸釉浆涂在坯件上，同一坯件施几种不同的釉，厚釉层刷平，缺釉处补釉。

6.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，对成型的基本胚体喷釉时，将喷雾器装上釉浆，喷枪连接空气压缩机风管，把釉浆均匀喷到坯体上。

7.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在步骤三中，待隔离胶干后，人工涂画釉水，并对涂画釉水后的胚体进行低温烘烤处理时，低温烘烤的温度为90℃—110℃左右。