[发明专利]一种掩膜版清洗后的干燥方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种掩膜版清洗后的干燥方法。

背景技术

在平板显示器件的图形制程中曝光工序所用的掩膜版(MASK)，通常采用在石英玻璃上镀铬、然后在铬层上制作出需要的图形。MASK脏污后必须进行清洗，并且要保证在清洗后MASK不得残留任何污点，否则，每个产品均会出现相同的不良。通常清洗方法为清洗剂清洗、纯水冲洗、纯水漂洗等步骤后，再采用吹风方式(或酒精等挥发性溶剂)进行干燥。但是，吹风(或酒精等)必须充分洁净，才能保证干燥后MASK的洁净，否则会对MASK造成二次污染。

发明内容

本发明的目的是提供一种掩膜版清洗后的干燥方法，能够避免纯水漂洗后的干燥过程对掩膜版的二次污染。

一种掩膜版清洗后的干燥方法，其特别之处在于，包括如下步骤：将洗净的掩膜版固定在夹具上并且全部浸入纯水中，该夹具与慢速运动装置连接从而能将该夹具和掩膜版平稳的慢速提升以脱离水面，控制提升的速度在10～70mm/min匀速进行提升直至掩膜版完全脱离纯水水面即可。

其中掩膜版为矩形，该掩膜版所在平面与纯水的水面垂直，并且该掩膜版的长边所在直线与纯水的水面倾斜相交，相交的角度在10～30度。

采用本发明的方法后，不用吹风(或酒精等挥发性溶剂)，利用现有漂洗用的充分洁净的纯水，当掩膜版从纯水漂洗槽出来后即可保证表面干燥，从而避免了后续干燥过程对掩膜版的二次污染。

附图说明

附图1为本发明方法的原理图。

具体实施方式

如图1所示，本发明是一种掩膜版清洗后的干燥方法，包括如下步骤：将洗净的掩膜版1固定在夹具2上并且全部浸入纯水中，该夹具2与慢速运动装置4连接从而能将该夹具2和掩膜版1平稳的慢速提升以脱离水面3，控制提升速度在10～70mm/min匀速进行提升直至掩膜版1完全脱离纯水水面3即可，例如以50mm/min匀速进行提升。

其中掩膜版1为矩形，该掩膜版1所在平面与纯水的水面3垂直，并且该掩膜版1的长边所在直线与纯水的水面3倾斜相交，角度在10～30度。

经过试验证明，当掩膜版1的提升速度为10～70mm/min时，纯水水面3会与掩膜版1彻底分离，纯水不会附着在掩膜版1上。而且，由于掩膜版1为斜立式固定，因此，其上下两个边与纯水水面3分离时为线性分离，也同样干燥。

本发明方法可以利用现有的升降运动机构和夹具2及漂洗用纯水，单纯控制运动机构的上升速度，就可使掩膜版1完全干燥，而且掩膜版1的洁净程度只受漂洗纯水的影响，不存在其它二次污染。