[发明专利]用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置有效
| 申请号： | 201310010357.3 | 申请日： | 2013-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN103074674A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 冉军学;胡强;胡国新;梁勇;熊衍凯;王军喜;曾一平;李晋闽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B25/08;C23C16/455 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 金属 有机化学 沉积 设备 反应 室进气 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置，包括：
一筒体；
一水冷匀气板，该水冷匀气板制作在筒体内；
一上盖板，该上盖板固定在筒体上，该上盖板与水冷匀气板之间形成一进气腔室；
一气体隔离装置，该气体隔离装置固定在上盖板上，该气体隔离装置是将进气腔室隔离成至少两个进气腔室或使之连通。
2.如权利要求1所述的用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置，其中该上盖板上开有至少两个进气口。
3.如权利要求1所述的用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置，其中该气体隔离装置包括一可活动的气体隔离板和与气体隔离板相连接的升降气缸，该升降气缸控制气体隔离板的升降，以控制气体在进气腔室中混合与隔离。
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