[发明专利]一种咪唑型杂化阴离子交换膜及其制备方法

权利要求书

1. 一种咪唑型杂化阴离子交换膜的制备方法，其特征在于具体步骤为：

（1）首先将硅球、溴化聚苯醚分散/溶解于溴化聚苯醚的良溶剂中；在此溶液中加入乙烯基咪唑，搅拌反应0.5～5h；再加入紫外光反应催化剂，搅拌均匀得到铸膜液；

（2）将配制好的铸膜液静置脱泡，然后浇铸成膜；40~150^oC下干燥5~20h；置于一定波长的紫外灯下反应3~20h，即得到咪唑型杂化阴离子交换膜；

所述的铸膜液中，每克溴化聚苯醚对应于3.0～4.5 mL的良溶剂，溴化聚苯醚与所加入的乙烯基咪唑的质量体积比为1:0.01～0.50，硅球的加入量为溴化聚苯醚质量的0.1～5%，紫外光反应催化剂的加入量为溴化聚苯醚质量的0.1～5%。

2. 根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的良溶剂是N、N－二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮或四氢呋喃，或其中几种的混合物。

3. 根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的硅球，是指经氨基改性的各种形貌结构的二氧化硅球，包括实心、中空、介孔、中空介孔结构，或其中几种的混合物。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的紫外光反应催化剂，是安息香甲醚、安息香乙醚、二苯甲酮或苯偶酰，，或其中几种的混合物。

5. 一种由权利要求1-4之一制备方法获得的咪唑型杂化阴离子交换膜，其膜基体具有交联结构，硅球分散在聚合物基体中，离子交换基为咪唑型荷正电基团。