[发明专利]一种X射线实时高清晰成像荧光材料

权利要求书

1.一种X射线实时高清晰成像荧光材料，其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种, 其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂，添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂，使用水热合成法，在温度230度，保持时间2-5小时；再烘干，制备出纳米50-300纳米的发光材料；该材料在X射线激发下，发射640nm可见光。

2.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，基质材料使用硫酸或硝酸溶解，在基质材料每克重量中，添加主激活剂Tb的浓度是1X10^-2-1X10^-3；在基质材料每克重量中，添加共激活剂Dy的浓度是1X10^-2-1X10^-3。

3.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，酸性化合物为：硫酸或硝酸。

4.如权利要求1所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，水热合成法使用封闭高压反应釜，稀释剂使用硫酸。

5.一种X射线实时高清晰成像荧光材料，其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种, 其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂，添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂，使用硫酸或硝酸溶液溶解，加草酸沉底，去水，干燥，在1100度硫气氛中烧结，保持时间2-4小时，制备出颗粒在0.8-5微米的发光材料；该材料在X射线激发下，发射640nm可见光。

6.如权利要求5所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，高温烧结时可以添加助熔剂，助熔剂为含有Bi、Mg、Na、Ba、Li、K的卤化物，加入量为基质材料重量的0.5-10%，提高其发光强度。

7.一种X射线实时高清晰成像荧光材料，其特征是:基质材料为Y、Gd、Lu中的一种氧化物, 其中添加含有Tb的酸性化合物的主激活剂，添加含有Dy的酸性化合物中的共激活剂；它们混合研磨，并烘干，在温度1400度硫气氛中烧结，保持时间2-5小时，制备出颗粒度5-15微米的发光材料；该材料在X射线激发下，发射640nm可见光。

8.如权利要求7所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，在基质材料每克重量中，添加主激活剂Tb的浓度是1X10^-2-1X10^-3；在基质材料每克重量中，添加共激活剂Dy的浓度是1X10^-2-1X10^-3;酸性化合物为：硫酸化合物、硝酸化合物。

9.如权利要求7所述一种X射线实时高清晰成像荧光材料，高温烧结时可以添加助熔剂，助熔剂为含有Bi、Mg、Na、Ba、Li、K的卤化物，加入量为基质材料重量的0.5-10%，其提高发光强度。